| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| ·场发射平板显示及其发光原理 | 第11-12页 |
| ·场发射平板显示器(FED)用阳极荧光材料的特点 | 第12-14页 |
| ·场发射阳极荧光薄膜的发展历史和现状 | 第14-15页 |
| ·本课题的开题思想及主要内容 | 第15-17页 |
| 第二章 理论基础 | 第17-32页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第17-18页 |
| ·ZnO薄膜的性质及应用领域 | 第18-21页 |
| ·ZnO薄膜的光学性质 | 第19-20页 |
| ·ZnO薄膜的压电性质 | 第20页 |
| ·ZnO薄膜的气敏性质 | 第20页 |
| ·ZnO薄膜的压敏性质 | 第20-21页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第21-24页 |
| ·ZnO薄膜的光致发光和阴极射线发光 | 第24-30页 |
| ·ZnO的光致发光机理 | 第24-26页 |
| ·材料的阴极射线发光过程 | 第26-27页 |
| ·ZnO荧光薄膜发光机理的研究现状 | 第27-30页 |
| ·ZnO薄膜作为场发射平板显示器低压荧光层的优势 | 第30-32页 |
| 第三章 实验方法及原理 | 第32-38页 |
| ·本试验所采用的电沉积装置 | 第32页 |
| ·电化学法制备ZnO薄膜的机理及特点 | 第32-33页 |
| ·阴极还原反应机理 | 第32-33页 |
| ·Zn~(2+)对硝酸根还原的类催化作用 | 第33页 |
| ·实验参数的选取 | 第33-34页 |
| ·衬底的选择及预处理 | 第33页 |
| ·电解质的配比及实验参数的控制 | 第33-34页 |
| ·表面形貌及微观结构的表征手段 | 第34-35页 |
| ·ZnO荧光薄膜的结构与形貌分析 | 第35-38页 |
| ·结构分析 | 第35-36页 |
| ·形貌分析 | 第36-37页 |
| ·发光特性测试 | 第37-38页 |
| 第四章 ZnO薄膜的制备及其工艺优化 | 第38-47页 |
| ·引言 | 第38-40页 |
| ·工艺参数的优化 | 第40-44页 |
| ·正交实验设计 | 第40-41页 |
| ·正交实验结果分析 | 第41-43页 |
| ·ZnO薄膜的阴极射线发光亮度 | 第43-44页 |
| ·最优试验条件下的ZnO薄膜的结构和形貌 | 第44-45页 |
| ·最优条件下ZnO薄膜的结构 | 第44-45页 |
| ·最优条件下ZnO薄膜的表面形貌 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第五章 试验参数对ZnO薄膜的结构和形貌的影响 | 第47-57页 |
| ·试验参数对ZnO薄膜结构特性的影响分析 | 第47-50页 |
| ·溶液浓度对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第47-48页 |
| ·沉积温度对薄膜结构及发光特性的影响 | 第48页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第48-49页 |
| ·沉积过程中电流的控制对ZnO薄膜结构的影响 | 第49-50页 |
| ·试验参数对ZnO薄膜的形貌影响分析 | 第50-56页 |
| ·沉积温度对ZnO薄膜微观形貌的影响 | 第50-55页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜形貌的影响 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第六章 ZnO薄膜的发光特性与机理分析 | 第57-68页 |
| ·引言 | 第57-59页 |
| ·ZnO薄膜的光致发光特性分析 | 第59-62页 |
| ·ZnO薄膜的光致发光谱 | 第59-61页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜的光致发光特性的影响 | 第61-62页 |
| ·ZnO薄膜的阴极射线发光特性分析 | 第62-67页 |
| ·ZnO薄膜的阴极射线发光谱 | 第62-65页 |
| ·ZnO薄膜的阴极射线发光亮度 | 第65-66页 |
| ·退火处理对ZnO薄膜阴极射线发光亮度的影响 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第七章 ZnO薄膜作为阳极荧光层的数码管的封装与亮度测试 | 第68-71页 |
| ·引言 | 第68页 |
| ·数码管的结构与封装 | 第68-71页 |
| 第八章 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 附录 | 第83页 |