| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-20页 |
| ·课题背景及意义 | 第11-12页 |
| ·我国陶瓷生产线控制系统现状 | 第12-15页 |
| ·组合仪表分散控制 | 第12-13页 |
| ·计算机集中控制 | 第13-14页 |
| ·计算机集散控制 | 第14页 |
| ·方案分析 | 第14-15页 |
| ·相关工业控制技术概述 | 第15-17页 |
| ·PLC(Programmable Logic Controller可编程逻辑控制器)技术 | 第15页 |
| ·现场总线技术 | 第15-16页 |
| ·工业以太网技术 | 第16-17页 |
| ·组态软件技术 | 第17页 |
| ·智能控制技术 | 第17页 |
| ·研究目标 | 第17-18页 |
| ·研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 陶瓷辊道窑控制系统简介及控制系统选择 | 第20-32页 |
| ·陶瓷辊道窑的烧成制度 | 第20-22页 |
| ·气氛制度 | 第20-21页 |
| ·温度制度 | 第21-22页 |
| ·压力制度 | 第22页 |
| ·陶瓷辊道窑的控制系统简介 | 第22-26页 |
| ·辊道窑温度控制系统 | 第23页 |
| ·辊道窑压力控制系统 | 第23-24页 |
| ·辊道窑氧化气氛控制系统 | 第24-25页 |
| ·辊道窑速度控制系统 | 第25-26页 |
| ·陶瓷辊道窑控制系统的选择 | 第26-32页 |
| ·单元组合式仪表控制系统与HSE的比较 | 第26页 |
| ·DCS与HSE的比较 | 第26-27页 |
| ·FCS与HSE的比较 | 第27-28页 |
| ·HSE系统的技术特点 | 第28-32页 |
| 第3章 陶瓷辊道窑控制系统设计 | 第32-40页 |
| ·高速以太网现场总线控制系统的结构 | 第32-33页 |
| ·高速以太网现场总线控制系统的设计 | 第33-38页 |
| ·系统规划 | 第33页 |
| ·总线设计和设备选型 | 第33-34页 |
| ·非防爆H1总线的设计 | 第34-35页 |
| ·本质安全H1总线的设计 | 第35页 |
| ·确定现场总线上的设备总数 | 第35-36页 |
| ·确定现场总线条数 | 第36页 |
| ·确定现场总线接口或网桥数 | 第36页 |
| ·关于现场总线扫描周期 | 第36-38页 |
| ·高速以太网现场总线控制系统的构成 | 第38-40页 |
| ·温度控制系统 | 第38-39页 |
| ·压力控制系统 | 第39页 |
| ·气氛控制系统 | 第39-40页 |
| 第4章 陶瓷辊道窑控制系统组态 | 第40-60页 |
| ·设备的安装 | 第40-41页 |
| ·DFI302硬件连接 | 第40-41页 |
| ·现场仪表连接 | 第41页 |
| ·组态软件的安装 | 第41页 |
| ·利用NI系统进行组态 | 第41-43页 |
| ·组态的步骤及作用 | 第41-42页 |
| ·本系统的组态 | 第42-43页 |
| ·功能块介绍 | 第43-48页 |
| ·资源块 | 第43-44页 |
| ·转换器块 | 第44-45页 |
| ·输入输出功能块 | 第45-47页 |
| ·控制算法功能块 | 第47-48页 |
| ·控制策略组态 | 第48-52页 |
| ·温度控制策略组态 | 第48-49页 |
| ·压力控制策略组态 | 第49-50页 |
| ·氧化气氛控制策略组态 | 第50-52页 |
| ·监控系统设计 | 第52-60页 |
| ·监控组态软件简介 | 第52-53页 |
| ·陶瓷生产控制系统实现 | 第53-58页 |
| ·工程测试、提交 | 第58-60页 |
| 第5章 总结与展望 | 第60-62页 |
| ·课题工作总结 | 第60-61页 |
| ·发展和展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 作者在研究生阶段发表的论文 | 第65页 |