| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-30页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·溅射镀膜原理 | 第9-14页 |
| ·溅射现象 | 第9-11页 |
| ·溅射镀膜 | 第11-12页 |
| ·磁控溅射的工作原理 | 第12-14页 |
| ·Al和Cu薄膜的研究现状和应用背景 | 第14-25页 |
| ·薄膜结构及内应力的研究现状 | 第14-17页 |
| ·薄膜光学性质的研究现状 | 第17-19页 |
| ·薄膜电学性质的研究现状 | 第19-25页 |
| ·本课题的研究背景和研究内容 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-30页 |
| 第二章 实验设备与测试方法 | 第30-34页 |
| ·实验设备简介 | 第30页 |
| ·衬底清洗 | 第30-31页 |
| ·实验操作步骤 | 第31-32页 |
| ·样品测试方法 | 第32-34页 |
| ·X射线衍射 | 第32页 |
| ·原子力显微镜测试 | 第32页 |
| ·膜厚测量 | 第32页 |
| ·薄膜反射率的测量 | 第32页 |
| ·薄膜电阻率的测量 | 第32-33页 |
| ·相移干涉测量表面形貌 | 第33-34页 |
| 第三章 Al薄膜直流磁控溅射法的制各及结构性能研究 | 第34-61页 |
| ·溅射功率对Al薄膜的性能研究 | 第34-38页 |
| ·溅射功率对Al薄膜沉积速率的影响 | 第34页 |
| ·溅射功率对Al薄膜密度的影响 | 第34-35页 |
| ·溅射功率对Al薄膜表面形貌的影响 | 第35-37页 |
| ·溅射功率对Al薄膜光学性能的研究 | 第37-38页 |
| ·沉积气压对Al薄膜的影响 | 第38-42页 |
| ·沉积气压对沉积速率的影响 | 第38-39页 |
| ·沉积气压对Al薄膜密度的影响 | 第39页 |
| ·沉积气压对Al薄膜表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| ·沉积气压对Al薄膜的光学性能的影响 | 第40-42页 |
| ·退火温度对Al薄膜结构与性能的影响 | 第42-58页 |
| ·退火温度对Al薄膜表面粗糙度的影响 | 第42-45页 |
| ·退火温度对Al薄膜晶型结构和应力的影 | 第45-50页 |
| ·低真空度下Al薄膜的退火研究 | 第45-48页 |
| ·高真空度下Al薄膜的退火研究 | 第48-50页 |
| ·退火温度对Al薄膜光学性能的影响 | 第50-53页 |
| ·退火温度对Al薄膜电学性能的影响 | 第53-57页 |
| ·不同退火温度下Al薄膜电阻率的测量 | 第53-56页 |
| ·退火研究Al薄膜电阻率与缺陷关系 | 第56-57页 |
| ·退火后低温(室温-零下140℃)下Al薄膜电学性能的研究 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-61页 |
| 第四章 纳米Cu薄膜的制备与择优取向的初步研究 | 第61-71页 |
| ·Cu薄膜的制各 | 第61页 |
| ·溅射功率对Cu薄膜沉积速率的影响 | 第61-62页 |
| ·溅射功率对Cu薄膜表面光洁度的影响 | 第62-63页 |
| ·衬底对Cu薄膜结构应力和定向取向的影响 | 第63-66页 |
| ·溅射功率对Cu薄膜结构应力和定向取向的影响 | 第66-68页 |
| ·不同厚度对Cu薄膜定向取向的影响 | 第68-69页 |
| ·结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-71页 |
| 第五章 总结及研究展望 | 第71-73页 |
| ·主要结论 | 第71-72页 |
| ·本论文的创新点 | 第72页 |
| ·工作展望 | 第72-73页 |
| 科研成果简介 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |