| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-18页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第8-10页 |
| ·ZnO 的研究现状 | 第10-16页 |
| ·p型掺杂的研究现状 | 第10-13页 |
| ·n型掺杂的研究现状 | 第13-14页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的研究现状 | 第14-16页 |
| ·存在的问题及本文主要工作 | 第16-18页 |
| ·存在的问题 | 第16-17页 |
| ·本文主要工作 | 第17-18页 |
| 第二章 样品的制备和表征 | 第18-27页 |
| ·实验方法介绍 | 第18-21页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第18-20页 |
| ·直流对靶磁控溅射原理 | 第20-21页 |
| ·样品制备 | 第21-24页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的制备 | 第21-22页 |
| ·Al电极的制备 | 第22-24页 |
| ·样品的表征 | 第24-27页 |
| 第三章 ZnO:Al 薄膜的结构和电学性质 | 第27-45页 |
| ·基底温度对ZnO:Al 薄膜的影响 | 第27-36页 |
| ·基底温度对ZnO:Al薄膜结构和元素化合价的影响 | 第27-31页 |
| ·基底温度对ZnO:Al薄膜电学性质的影响 | 第31-36页 |
| ·O_2流量对ZnO:Al薄膜的影响 | 第36-43页 |
| ·O_2流量对ZnO:Al薄膜结构的影响 | 第37-38页 |
| ·O_2流量对ZnO:Al薄膜电学性质的影响 | 第38-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 ZnO:Al 薄膜的光学性质 | 第45-58页 |
| ·透射光谱及光致发光谱的相关理论 | 第45-48页 |
| ·透射光谱的相关理论 | 第45-47页 |
| ·光致发光谱的相关理论 | 第47-48页 |
| ·O_2流量对ZnO:Al薄膜光学性质的影响 | 第48-55页 |
| ·O_2流量对透光性质的影响 | 第48-52页 |
| ·O_2流量对发光性质的影响 | 第52-55页 |
| ·基底温度对ZnO:Al 薄膜透光性质的影响 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-67页 |
| 硕士在读期间已发表和已完成的论文 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |