酞菁氯化铟的合成及其在光敏电阻中的应用研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-6页 |
| 前言 | 第6-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-19页 |
| ·光电传感器 | 第7-10页 |
| ·国内外光电传感器的研究现状 | 第7-9页 |
| ·光电传感器的应用 | 第9-10页 |
| ·光敏电阻 | 第10-13页 |
| ·光敏电阻的导电原理 | 第10-11页 |
| ·光敏电阻的制备工艺 | 第11-13页 |
| ·有机半导体 | 第13-15页 |
| ·聚乙炔 | 第13-14页 |
| ·并五苯 | 第14-15页 |
| ·酞菁 | 第15页 |
| ·酞菁氯化铟的合成 | 第15-17页 |
| ·本文的研究工作 | 第17-19页 |
| 第二章 实验 | 第19-25页 |
| ·实验原料及测试仪器 | 第19-20页 |
| ·实验原料 | 第19-20页 |
| ·测试仪器 | 第20页 |
| ·酞菁氯化铟的合成 | 第20-22页 |
| ·无水三氯化铟的制备 | 第20-21页 |
| ·1,3-二亚氨基异吲哚啉（酞菁素）的预处理 | 第21页 |
| ·单一溶剂法合成酞菁氯化铟 | 第21页 |
| ·混合溶剂法合成酞菁氯化铟 | 第21-22页 |
| ·固相法合成酞菁氯化铟 | 第22页 |
| ·酞菁氯化铟的提纯 | 第22页 |
| ·酞菁氯化铟的晶型调节 | 第22页 |
| ·光电性能测试 | 第22-25页 |
| ·光敏电阻薄膜的制备 | 第22-23页 |
| ·性能测试 | 第23-25页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第25-52页 |
| ·酞菁氯化铟的合成 | 第25-34页 |
| ·溶剂法合成酞菁氯化铟 | 第25-28页 |
| ·固相法合成酞菁氯化铟 | 第28-32页 |
| ·酞菁氯化铟的提纯 | 第32-34页 |
| ·酞菁氯化铟的结构表征 | 第34-36页 |
| ·红外吸收光谱 | 第34-35页 |
| ·紫外-可见-近红外吸收光谱 | 第35-36页 |
| ·酞菁氯化铟的转型 | 第36-38页 |
| ·转型溶剂及其配比的影响 | 第36-38页 |
| ·转型温度的影响 | 第38页 |
| ·有机薄膜光敏电阻的制备工艺及性能测试 | 第38-52页 |
| ·制备工艺的研究 | 第38-47页 |
| ·酞菁氯化铟光敏电阻薄膜的表征 | 第47-49页 |
| ·复合材料体系光敏电阻 | 第49-52页 |
| 第四章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第56-57页 |
| 附录 | 第57-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
