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次磷酸钠还原化学镀铜工艺研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 绪论第10-18页
   ·化学镀的发展概述第10-11页
   ·化学镀铜的应用领域第11-12页
     ·在印制电路板(PCB)孔金属化处理中的应用第11页
     ·在多层印制电路板内层铜箔处理中的应用第11页
     ·在电磁屏蔽技术中的应用第11-12页
     ·在其它方面的应用第12页
   ·化学镀铜技术研究进展第12-14页
   ·化学镀铜的基本原理第14-16页
     ·化学热力学原理第14-15页
     ·化学动力学原理第15页
     ·次磷酸钠还原化学镀铜反应机理第15-16页
   ·本文的研究目的及主要内容第16-18页
第二章 施镀基体表面前处理工艺研究第18-43页
   ·实验材料、仪器及测试方法第19-23页
     ·实验材料及试剂第19页
     ·实验仪器第19-20页
     ·实验测试方法第20-21页
     ·实验设计方法—正交试验设计原理第21-23页
   ·施镀基板表面预处理研究工艺流程第23页
   ·基板除油研究第23-25页
   ·基板粗化实验研究第25-39页
     ·铬酐-浓硫酸系、碱性高锰酸钾体系粗化方法研究第26-31页
     ·PCB 基材新型粗化方法研究第31-39页
   ·PCB 基板化学镀铜敏化工艺研究第39-40页
     ·敏化机理第39-40页
     ·敏化工艺参数及操作步骤第40页
   ·PCB 基板活化工艺研究第40-42页
     ·基板活化机理第41页
     ·活化工艺参数及操作步骤第41-42页
   ·本章小结第42-43页
第三章 次磷酸钠还原化学镀铜工艺研究第43-67页
   ·实验材料、仪器及测试方法第44-46页
     ·实验材料及试剂第44页
     ·实验仪器第44页
     ·实验样品测试方法第44-46页
   ·次磷酸钠还原化学镀铜工艺研究第46-52页
     ·次磷酸钠化学镀铜体系的镀液组分及作用第46-48页
     ·次磷酸钠还原化学镀铜工艺流程第48页
     ·次磷酸钠还原化学镀铜工艺优化第48-50页
     ·实验结果分析第50-52页
   ·次磷酸钠还原化学镀铜工艺与甲醛工艺对比研究第52-58页
     ·PCB 基板样品镀层形貌研究第53-55页
     ·实验样品镀层的成份研究第55-58页
     ·实验样品镀层的物理性能研究第58页
   ·次磷酸钠体系化学镀铜镀层沉积速率研究第58-65页
     ·实验样品镀层沉积速率的测定方法第58-59页
     ·镀液中硫酸镍浓度对镀层沉积速率的影响第59-60页
     ·镀液pH 值对镀层沉积速率的影响第60-61页
     ·柠檬酸钠浓度对镀层沉积速率的影响第61-63页
     ·次磷酸钠浓度对镀层沉积速率的影响第63-64页
     ·温度对镀层沉积速率的影响第64-65页
   ·本章小结第65-67页
第四章 添加剂对次磷酸钠化学镀铜的影响第67-80页
   ·实验原料、仪器及测试方法第67-69页
     ·实验材料及试剂第67页
     ·实验仪器及测试方法第67-68页
     ·实验测试方法第68-69页
   ·添加亚铁氰化钾对次磷酸钠化学镀铜的影响研究第69-73页
     ·添加亚铁氰化钾对表面形貌的影响第69-71页
     ·添加亚铁氰化钾对沉积速率的影响第71-72页
     ·添加亚铁氰化钾对电阻率的影响第72-73页
   ·添加2,2ˊ-联吡啶对次磷酸钠体系化学镀铜的影响研究第73-76页
     ·添加2,2ˊ-联吡啶对表面形貌的影响第73-74页
     ·添加2,2ˊ-联吡啶对沉积速率的影响第74-75页
     ·添加2,2ˊ-联吡啶对电阻率的影响第75-76页
   ·添加马来酸对次磷酸钠化学镀铜的影响研究第76-78页
     ·添加马来酸对镀层表面形貌的影响第76-77页
     ·添加马来酸对沉积速率的影响第77-78页
     ·添加马来酸对实验样品电阻率的影响第78页
   ·本章小结第78-80页
第五章 结论第80-82页
致谢第82-83页
参考文献第83-85页
攻硕期间取得的研究成果第85-86页

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