| 学位论文原创性声明和学位论文版权使用授权书 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·纳米线及其阵列的合成方法研究进展 | 第10-18页 |
| ·模板法合成纳米线 | 第10-15页 |
| ·激光烧蚀法合成纳米线 | 第15-16页 |
| ·其它合成纳米线方法 | 第16-18页 |
| ·纳米线的应用 | 第18-19页 |
| ·研究意义与研究内容 | 第19-21页 |
| ·研究意义 | 第19-20页 |
| ·研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 钯银共沉积电解液的研究 | 第21-30页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·实验 | 第21-22页 |
| ·试剂 | 第21页 |
| ·实验装置与实验方法 | 第21-22页 |
| ·分析测试方法 | 第22-23页 |
| ·电化学实验方法 | 第22页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第22-23页 |
| ·X-射线衍射法 | 第23页 |
| ·低浓度下钯银共沉积电解液体系的确定 | 第23-29页 |
| ·简单离子镀液中钯银共沉积的理论计算 | 第23-24页 |
| ·电解液体系中添加剂的选择即添加剂对制备纳米线的影响 | 第24-27页 |
| ·钯、银及其合金电沉积的极化曲线 | 第27-28页 |
| ·钯银共沉积金相组织结构研究 | 第28-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第3章 电沉积钯银合金成分研究 | 第30-38页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验 | 第30页 |
| ·实验试剂和实验装置 | 第30页 |
| ·实验仪器方法 | 第30页 |
| ·实验测试技术 | 第30-32页 |
| ·电沉积合金成分分析—原子发射光谱法(AES) | 第30-31页 |
| ·纳米线的合金成分分析: X射线能谱法(EDX) | 第31页 |
| ·电化学实验测试技术 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-37页 |
| ·镀液中金属离子浓度对合金成分的影响 | 第32-34页 |
| ·钯和银沉积速率比较 | 第34页 |
| ·银在HOPG表面吸附与电沉积机理 | 第34-36页 |
| ·钯银合金共沉积中Ag的欠电势沉积机理 | 第36-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第4章 三脉冲法合成钯银合金纳米线阵列 | 第38-51页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·HOPG上纳米线的合成原理 | 第38-39页 |
| ·HOPG上纳米线的合成方法 | 第39页 |
| ·实验结果与讨论 | 第39-49页 |
| ·HOPG基底处理的两种方法 | 第39-41页 |
| ·恒电势脉冲法和恒电流脉冲法合成钯银合金纳米线 | 第41-42页 |
| ·沉积条件对钯银合金纳米线合成质量的影响 | 第42-48页 |
| ·沉积条件对钯银合金纳米线合金成分的影响 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-51页 |
| 第5章 一步电沉积和自组装合成钯银合金纳米线 | 第51-62页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·实验方法 | 第52-54页 |
| ·钯银合金纳米线的自组装方法 | 第52-53页 |
| ·电沉积机理研究方法 | 第53-54页 |
| ·实验结果与讨论 | 第54-59页 |
| ·硫醇自组装电沉积钯银合金纳米线研究 | 第54-57页 |
| ·一步法电沉积钯银合金纳米线 | 第57-59页 |
| ·三种电沉积纳米线方法的直径分布及晶间扩散耦合效应分析 | 第59-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-75页 |
| 附录A 攻读学位期间发表的论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 后记 | 第77页 |