脉冲激光沉积制备ZnO薄膜及其结构和发光特性分析
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 综述 | 第7-25页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·ZnO材料的基本特性 | 第8-14页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第9-10页 |
| ·ZnO的能带 | 第10页 |
| ·ZnO的本征缺陷 | 第10-11页 |
| ·室温ZnO的发光性质研究概况 | 第11-14页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第14-18页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第15页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第15-16页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第16页 |
| ·溅射(Sputter) | 第16-17页 |
| ·原子层外延(ALE) | 第17页 |
| ·溶胶凝胶法(Sol-gel) | 第17页 |
| ·喷射热分解(Spray pyrolysis)法 | 第17-18页 |
| ·电子束蒸发 | 第18页 |
| ·ZnO薄膜的掺杂研究 | 第18-22页 |
| ·n型掺杂 | 第19页 |
| ·p型掺杂 | 第19-22页 |
| ·ZnO薄膜的主要用途 | 第22-24页 |
| ·本人所作的工作 | 第24-25页 |
| 第二章 实验方法 | 第25-36页 |
| ·脉冲激光沉积概述 | 第25-26页 |
| ·脉冲激光沉积的物理过程 | 第26-28页 |
| ·PLD特点 | 第28-29页 |
| ·实验设备简述 | 第29-30页 |
| ·衬底的选择和样品的预处理 | 第30-31页 |
| ·薄膜生长过程 | 第31-32页 |
| ·测试手段 | 第32-36页 |
| ·结构分析 | 第32-33页 |
| ·形貌分析 | 第33-34页 |
| ·光致发光测试分析 | 第34-36页 |
| 第三章 实验结果与分析 | 第36-52页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜的影响 | 第36-42页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第36-39页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜表面结构的影响 | 第39-41页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜光致发光的影响 | 第41-42页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜的影响 | 第42-47页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第42-45页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜表面结构的影响 | 第45-46页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜光致发光的影响 | 第46-47页 |
| ·氧压对ZnO薄膜的影响 | 第47-52页 |
| ·氧压对ZnO薄膜结构特性的影响 | 第47-49页 |
| ·氧压对ZnO薄膜表面结构的影响 | 第49-51页 |
| ·氧压对ZnO薄膜光致发光的影响 | 第51-52页 |
| 第四章 论文总结 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 独创性声明 | 第62页 |
| 版权使用授权书 | 第62页 |
