| 第一章 瞬态分子光谱及线型研究的历史背景 | 第1-13页 |
| §1．1 研究背景 | 第9-12页 |
| §1．2 本文概述 | 第12-13页 |
| 第二章 速度／浓度调制磁旋转光谱技术对瞬态分子的选择和甄别特性 | 第13-22页 |
| §2．1 速度调制光谱技术对瞬态分子光谱的选择和甄别 | 第13-17页 |
| §2．2 浓度调制光谱技术对瞬态分子光谱的选择和甄别 | 第17-19页 |
| §2．3 磁旋转光谱技术对瞬态分子光谱的选择和甄别 | 第19-22页 |
| 第三章 磁旋转光谱技术中磁场对谱线强度的影响 | 第22-31页 |
| §3．1 磁场对谱线强度的影响 | 第22-30页 |
| §3．2 本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 半导体激光器的光谱技术实验 | 第31-35页 |
| §4．1 差分速度调制和光外差浓度调制光谱技术对N_2+He放电谱的测量比较 | 第31-35页 |
| 第五章 钛宝石激光器的光谱技术实验 | 第35-42页 |
| §5．1 光外差浓度调制光谱技术对O_2的测量 | 第35-36页 |
| §5．2 对O_2谱的分析 | 第36-41页 |
| §5．3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第六章 钛宝石激光器使用的相关说明 | 第42-46页 |
| §6．1 激光器日常使用需要注意事项 | 第42-46页 |
| 第七章 总结与展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 发表论文 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
