| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| 第一节 背景介绍及研究意义 | 第12-15页 |
| ·光伏产业的发展 | 第12页 |
| ·硅基薄膜太阳电池的研究意义 | 第12-13页 |
| ·单室沉积硅基薄膜太阳电池的研究意义 | 第13页 |
| ·单室沉积硅基薄膜叠层太阳电池的研究意义 | 第13-15页 |
| 第二节 硅基薄膜叠层太阳电池的研究现状 | 第15-19页 |
| ·单室沉积微晶硅电池及非晶硅/微晶硅叠层电池的研究现状 | 第15-16页 |
| ·硅基薄膜三结叠层太阳电池的研究现状 | 第16-19页 |
| 第三节 本论文的组织结构及研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 物理基础与实验表征方法 | 第20-33页 |
| 第一节 制备硅基薄膜的理论基础 | 第20-21页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积 | 第20页 |
| ·等离子体内的化学反应 | 第20-21页 |
| 第二节 硅基薄膜叠层太阳电池的理论基础 | 第21-27页 |
| ·单结硅基薄膜电池工作原理 | 第21-22页 |
| ·硅基薄膜叠层电池工作原理 | 第22-25页 |
| ·硅基薄膜叠层电池的理论分析 | 第25-27页 |
| 第三节 硅基薄膜材料和电池的测试技术 | 第27-33页 |
| ·硅基薄膜材料光电性能的测试 | 第27-30页 |
| ·太阳电池性能的表征方法 | 第30-33页 |
| 第三章 基于单室沉积微晶硅电池的非晶硅/微晶硅叠层电池研究 | 第33-53页 |
| 第一节 非晶硅顶电池的制备 | 第33-34页 |
| 第二节 单室沉积单结微晶硅薄膜太阳电池的研究 | 第34-43页 |
| ·前氢处理对微晶硅本征起始层的影响 | 第35-39页 |
| ·单结微晶硅电池性能的调控 | 第39-43页 |
| 第三节 基于单室沉积微晶硅电池的非晶硅/微晶硅叠层电池的研究 | 第43-52页 |
| ·微晶硅底电池本征层厚度对叠层电池性能的影响 | 第43-46页 |
| ·微晶硅底电池的本征层硅烷浓度对叠层电池性能的影响 | 第46-49页 |
| ·微晶硅底电池p/i界面的优化 | 第49-50页 |
| ·基于单室沉积微晶硅电池的非晶硅/微晶硅叠层电池的性能优化 | 第50-52页 |
| 第四节 小结 | 第52-53页 |
| 第四章 单室沉积非晶硅/非晶硅/微晶硅三结叠层太阳电池的研究 | 第53-70页 |
| 第一节 单室沉积非晶硅/非晶硅叠层太阳电池 | 第53-54页 |
| 第二节 n/p隧穿结性能的优化 | 第54-67页 |
| ·H等离子体处理时间的优化 | 第56-59页 |
| ·微晶n层的沉积条件的优化 | 第59-62页 |
| ·微晶n层的沉积时间的优化 | 第62-65页 |
| ·微晶p层的沉积时间的优化 | 第65-67页 |
| 第三节 微晶硅底电池的本征层硅烷浓度对叠层电池性能的影响 | 第67-68页 |
| 第四节 单室沉积非晶硅/非晶硅/微晶硅三结叠层电池的优化 | 第68-69页 |
| 第五节 小结 | 第69-70页 |
| 第五章 总结与展望 | 第70-73页 |
| 第一节 主要研究内容及成果 | 第70-71页 |
| 第二节 有待进一步开展的工作 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 个人简历在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第79页 |
