纳米ITO粉体的制备及其分散性研究
| 第1章 绪论 | 第1-15页 |
| ·ITO材料 | 第8-10页 |
| ·ITO材料概述 | 第8-9页 |
| ·ITO的应用性能 | 第9-10页 |
| ·ITO的应用及薄膜技术 | 第10-12页 |
| ·ITO的应用 | 第10-12页 |
| ·ITO薄膜的制备 | 第12页 |
| ·ITO纳米粉体的制备 | 第12-14页 |
| ·本研究的背景、目的及内容 | 第14-15页 |
| 第2章 实验方法 | 第15-20页 |
| ·主要原料与试剂 | 第15页 |
| ·主要仪器 | 第15-16页 |
| ·工艺流程及实验方法 | 第16-17页 |
| ·ITO粉体的制备 | 第16-17页 |
| ·分散性能的研究 | 第17页 |
| ·测试方法及原理 | 第17-20页 |
| ·X射线衍射分析 | 第17-18页 |
| ·差热分析 | 第18页 |
| ·电镜分析 | 第18页 |
| ·红外光谱分析 | 第18页 |
| ·电阻测试 | 第18-19页 |
| ·电导率测试 | 第19页 |
| ·透光率测试 | 第19-20页 |
| 第3章 试验理论基础 | 第20-29页 |
| ·共沉淀法制备过程分析原理 | 第20页 |
| ·前驱体纳米粒子的液相中的形成 | 第20-24页 |
| ·纳米粒子成核驱动力 | 第21页 |
| ·纳米粒子成核形成条件 | 第21-22页 |
| ·纳米粒子成核速率 | 第22-23页 |
| ·纳米粒子生长速率 | 第23-24页 |
| ·前驱体的后处理 | 第24-26页 |
| ·干燥与煅烧 | 第24-25页 |
| ·煅烧过程中半导化机理 | 第25-26页 |
| ·纳米粒子的团聚与分散 | 第26-29页 |
| ·纳米粉体产生团聚的原因 | 第26页 |
| ·制备纳米粉体过程中团聚的解决方法 | 第26-28页 |
| ·应用纳米粉体过程中团聚的解决方法 | 第28-29页 |
| 第4章 化学共沉淀法制备纳米ITO粉体的试验研究 | 第29-44页 |
| ·ITO前驱体的制备 | 第29-34页 |
| ·基本试验条件的选用 | 第29-31页 |
| ·溶液的浓度选择 | 第31-32页 |
| ·PH值对ITO粉体的影响 | 第32-34页 |
| ·煅烧制度对ITO粉体的影响 | 第34-38页 |
| ·温度 | 第34-35页 |
| ·气氛 | 第35-37页 |
| ·煅烧保温时间 | 第37-38页 |
| ·综合试验分析 | 第38-42页 |
| ·热分析 | 第38-39页 |
| ·X射线衍射分析 | 第39-41页 |
| ·透射照片分析 | 第41-42页 |
| ·红外光谱分析 | 第42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 第5章 共沉淀介质对纳米ITO粉体分散性能研究 | 第44-56页 |
| ·思想方法的引进 | 第44-45页 |
| ·介质改变对ITO粉体颗粒性能的影响 | 第45-48页 |
| ·介质对粉体粒径的影响 | 第45-46页 |
| ·介质对粉体电性能的影响 | 第46页 |
| ·介质对粉体光性能的影响 | 第46-47页 |
| ·介质对粉体表面性能的影响 | 第47-48页 |
| ·介质改变对ITO粉体分散性能的影响 | 第48-52页 |
| ·无添加介质制备的纳米ITO粉体分散研究 | 第48-50页 |
| ·添加介质制备得到的纳米ITO粉体分散性研究 | 第50-52页 |
| ·添加KCL分散性能提高的原理探究 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 附录 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第60页 |
