| 第一章 文献综述 | 第1-21页 |
| 1．1 前言 | 第9页 |
| 1．2 高纯氧化铝的用途 | 第9-10页 |
| 1．3 高纯氧化铝的合成工艺 | 第10-12页 |
| 1．4 高纯氧化铝的质量要求 | 第12-15页 |
| 1．4．1 杂质Na_2O的影响 | 第13页 |
| 1．4．2 杂质Fe_2O_3的影响 | 第13页 |
| 1．4．3 杂质SiO_2的影响 | 第13-14页 |
| 1．4．4 杂质CaO和MgO的影响 | 第14-15页 |
| 1．5 高纯氧化铝中杂质的分析方法 | 第15-18页 |
| 1．5．1 试样的分解 | 第15页 |
| 1．5．2 化学分析方法 | 第15-16页 |
| 1．5．3 仪器分析方法 | 第16-18页 |
| 1．6 微波溶样技术在分析制样中的应用 | 第18-19页 |
| 1．7 立题思想 | 第19-21页 |
| 第二章 微波溶样方法的研究 | 第21-30页 |
| 2．1 前言 | 第21页 |
| 2．2 微波溶样的原理 | 第21-23页 |
| 2．3 仪器参数 | 第23-24页 |
| 2．3．1 微波消解系统组成部分 | 第23页 |
| 2．3．2 HPR-1000／10S消解系统的安全原理 | 第23-24页 |
| 2．4 试验部分 | 第24-26页 |
| 2．4．1 试剂 | 第24页 |
| 2．4．2 试验步骤 | 第24-25页 |
| 2．4．3 试验设计 | 第25-26页 |
| 2．5 结果与讨论 | 第26-28页 |
| 2．5．1 微波溶样试验结果 | 第26-27页 |
| 2．5．2 微波消解程序 | 第27页 |
| 2．5．3 实验室常用的传统溶样方法 | 第27-28页 |
| 2．6 小结 | 第28-30页 |
| 第三章 高纯氧化铝中Fe_2O_3、SiO_2的测定 | 第30-43页 |
| 3．1 前言 | 第30页 |
| 3．2 主要试剂与仪器 | 第30-31页 |
| 3．3 微波消解-萃取光度法测定高纯氧化铝中Fe_2O_3 | 第31-37页 |
| 3．3．1 试验方法 | 第31-32页 |
| 3．3．2 结果与讨论 | 第32-37页 |
| 3．4 微波消解-萃取光度法测定高纯氧化铝中SiO_2 | 第37-42页 |
| 3．4．1 试验方法 | 第37页 |
| 3．4．2 结果与讨论 | 第37-42页 |
| 3．5 小结 | 第42-43页 |
| 第四章 ICP-AES测定高纯氧化铝中痕量杂质 | 第43-62页 |
| 4．1 前言 | 第43-44页 |
| 4．2 仪器与试剂 | 第44-45页 |
| 4．2．1 仪器及其工作参数 | 第44-45页 |
| 4．2．2 主要试剂 | 第45页 |
| 4．3 试样的分解 | 第45-46页 |
| 4．4 仪器工作条件最优化试验 | 第46-54页 |
| 4．4．1 元素分析线的选择 | 第46-48页 |
| 4．4．2 高频功率的选择 | 第48-49页 |
| 4．4．3 雾化器压力试验 | 第49-50页 |
| 4．4．4 辅助气流量试验 | 第50-51页 |
| 4．4．5 进样速率试验 | 第51-53页 |
| 4．4．6 曝光时间试验 | 第53-54页 |
| 4．5 ICP发射光谱分析中的干扰及其校正 | 第54-56页 |
| 4．5．1 光谱干扰及其校正 | 第54-55页 |
| 4．5．2 物理干扰及其校正 | 第55-56页 |
| 4．6 方法的可行性考察 | 第56-60页 |
| 4．6．1 方法的检出限 | 第56-57页 |
| 4．6．2 方法的精密度 | 第57-58页 |
| 4．6．3 方法的准确度 | 第58-59页 |
| 4．6．4 样品分析 | 第59-60页 |
| 4．7 小结 | 第60-62页 |
| 第五章 结论与展望 | 第62-63页 |
| 5．1 结论 | 第62页 |
| 5．2 展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读硕士期间发表的文章 | 第68页 |
