基于声阵列的语音增强系统的理论研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstmct | 第5-8页 |
引言 | 第8-12页 |
1 阵列概述 | 第12-21页 |
1.1 阵列的形式 | 第12-19页 |
1.1.1 线性阵列 | 第12-13页 |
1.1.2 面阵列 | 第13-19页 |
1.2 阵列的优势 | 第19-20页 |
1.3 小结 | 第20-21页 |
2 阵列处理基础 | 第21-29页 |
2.1 阵列处理中的基本概念 | 第21-28页 |
2.1.1 声波的传播 | 第21-22页 |
2.1.2 连续窗 | 第22-24页 |
2.1.3 离散传感器阵列指向性及其评价参数 | 第24-28页 |
2.2 小结 | 第28-29页 |
3 波束形成技术概述 | 第29-36页 |
3.1 噪声场 | 第29-31页 |
3.2 波束形成技术概述 | 第31-33页 |
3.3 波束形成技术的评价指标 | 第33-35页 |
3.4 小结 | 第35-36页 |
4 延迟求和波束形成技术 | 第36-51页 |
4.1 延迟求和波束形成技术 | 第36-45页 |
4.1.1 延迟求和波束形成技术的基本理论 | 第36-38页 |
4.1.2 延迟求和波束形成技术的模拟过程 | 第38-39页 |
4.1.3 时间延迟估计方法 | 第39-41页 |
4.1.4 延迟求和波束形成技术的性能分析 | 第41-45页 |
4.2 基于延迟求和波束形成技术的改进算法 | 第45-50页 |
4.2.1 零点形成波束形成技术 | 第45-49页 |
4.2.2 子阵列波束形成技术 | 第49-50页 |
4.3 小结 | 第50-51页 |
5 恒定指向性波束形成技术 | 第51-58页 |
5.1 恒定指向性波束形成技术的基本原理 | 第52-55页 |
5.2 传声器自身的特性对空间响应的影响 | 第55-57页 |
5.3 小结 | 第57-58页 |
6 自适应波束形成技术 | 第58-64页 |
6.1 线性约束最小方差波束形成技术 | 第58-59页 |
6.2 总旁瓣消除技术 | 第59-62页 |
6.3 总旁瓣消除技术的消噪性能分析程度 | 第62-63页 |
6.4 小结 | 第63-64页 |
7 后置维纳滤波波束形成技术 | 第64-70页 |
7.1 维纳滤波最优解的推导 | 第64页 |
7.2 后置滤波波束形成技术 | 第64-65页 |
7.3 后置滤波波束形成技术的消噪性能分析 | 第65-67页 |
7.4 计算机模拟实验 | 第67-69页 |
7.5 小结 | 第69-70页 |
结论 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-74页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第74-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第76页 |