中文摘要 | 第1-5页 |
英文摘要 | 第5-10页 |
1 前言 | 第10-20页 |
1.1 化学镀镍发展概况 | 第10页 |
1.2 化学镀镍特点、应用及展望 | 第10-13页 |
1.2.1 化学镀镍的特点 | 第10-12页 |
1.2.2 化学镀镍合金的应用 | 第12-13页 |
1.2.3 化学镀镍合金的应用展望 | 第13页 |
1.3 化学镀镍条件 | 第13-14页 |
1.3.1 化学镀镍与基底材料 | 第13-14页 |
1.3.2 化学镀镍镀液 | 第14页 |
1.4 化学镀镍机理 | 第14-16页 |
1.4.1 化学镀Ni-P合金机理 | 第15页 |
1.4.2 化学镀Ni-B合金机理 | 第15页 |
1.4.3 肼作还原剂机理 | 第15-16页 |
1.5 影响化学镀镍的因素 | 第16-18页 |
1.5.1 镍离子的影响 | 第17页 |
1.5.2 次磷酸根离子的影响 | 第17页 |
1.5.3 络合剂的影响 | 第17页 |
1.5.4 稳定剂的影响 | 第17页 |
1.5.5 温度的影响 | 第17页 |
1.5.6 pH的影响 | 第17-18页 |
1.6 问题与探索 | 第18-20页 |
1.6.1 问题 | 第18-19页 |
1.6.2 研究方法 | 第19-20页 |
2 实验部分 | 第20-27页 |
2.1 实验设计 | 第20-22页 |
2.1.1 实验目标 | 第20页 |
2.1.2 实验方法 | 第20-21页 |
2.1.3 质量控制与检验 | 第21-22页 |
2.2 铜及黄铜基体化学镀Ni-P合金实验 | 第22-27页 |
2.2.1 基体组成与前处理 | 第22页 |
2.2.2 黄铜脱锌实验 | 第22-23页 |
2.2.3 铜及黄铜基体表面的活化及诱发 | 第23-24页 |
2.2.4 铜及黄铜基体化学镀Ni-P合金镀液配方及工艺 | 第24-25页 |
2.2.5 热处理时效强化 | 第25页 |
2.2.6 镀液配方的优化 | 第25-26页 |
2.2.7 补充实验 | 第26-27页 |
3 实验结果与讨论 | 第27-43页 |
3.1 黄铜脱锌实验的结果与分析 | 第27页 |
3.1.1 黄铜脱锌实验结果 | 第27页 |
3.1.2 黄铜脱锌结果分析 | 第27页 |
3.2 铜及黄铜基体活化实验的结果与分析 | 第27-31页 |
3.2.1 几种活化或诱发方法的比较 | 第28页 |
3.2.2 原电池诱发的结果与分析 | 第28-31页 |
3.3 化学镀Ni-P合金实验结果与分析 | 第31-32页 |
3.3.1 正交实验极差分析 | 第31-32页 |
3.3.2 镀液配方优选 | 第32页 |
3.4 施镀条件对镀速及镀层磷含量的影响 | 第32-35页 |
3.4.1 诱发时间的影响 | 第32-33页 |
3.4.2 温度的影响 | 第33页 |
3.4.3 镀液pH值的影响 | 第33-34页 |
3.4.4 镀液装载量的影响 | 第34页 |
3.4.5 搅拌的影响 | 第34-35页 |
3.5 溶液组成对化学镀Ni-P合金的影响 | 第35-38页 |
3.5.1 主盐与还原剂的影响 | 第35-36页 |
3.5.2 有机酸的作用 | 第36-37页 |
3.5.3 稳定剂的影响 | 第37-38页 |
3.5.4 缓冲剂的影响 | 第38页 |
3.6 镀液老化的影响 | 第38页 |
3.7 热处理时效强化实验结果与分析 | 第38-40页 |
3.7.1 热处理时效强化的主要理由 | 第38页 |
3.7.2 热处理与镀层磷含量的关系 | 第38-39页 |
3.7.3 热处理温度对镀层硬度和耐磨性的影响 | 第39-40页 |
3.7.4 热处理时效强化的缺点 | 第40页 |
3.8 镀液和镀层的评价 | 第40-43页 |
3.8.1 镀液的稳定性 | 第40页 |
3.8.2 镀层的质量和结构 | 第40-43页 |
4 铜及黄铜基体化学镀Ni-P合金的机理研究 | 第43-53页 |
4.1 黄铜基体 | 第43-48页 |
4.1.1 金属铜、锌的参数 | 第43页 |
4.1.2 黄铜的结构分析 | 第43-47页 |
4.1.3 黄铜中的杂质元素 | 第47-48页 |
4.2 黄铜基体化学镀镍的反应机理 | 第48-53页 |
4.2.1 研究化学镀镍机理的方法 | 第48-49页 |
4.2.2 化学镀镍的历程探讨 | 第49-51页 |
4.2.3 化学镀镍的反应步骤 | 第51页 |
4.2.4 对铜及黄铜基体化学镀Ni-P合金中实验现象的解释 | 第51-53页 |
5 结论与展望 | 第53-54页 |
致谢 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-56页 |