| 第一章 绪论 | 第1-23页 |
| §1．1 引言 | 第7页 |
| §1．2 脉冲磁过滤阴极弧沉积技术（FCAPD）简述 | 第7-14页 |
| §1．3 FCAPD的应用 | 第14-18页 |
| §1．4 本论文选题依据及研究内容 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-23页 |
| 第二章 PFCAPD系统的设计 | 第23-34页 |
| §2．1 阴极弧源系统的设计 | 第23-25页 |
| §2．2 磁过滤系统的设计 | 第25-26页 |
| §2．3 沉积室的设计 | 第26-27页 |
| §2．4 真空系统的设计 | 第27页 |
| §2．5 电源系统的设计 | 第27-33页 |
| §2．6 冷却系统的设计 | 第33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 PFCAPD系统的调试 | 第34-47页 |
| §3．1 阴极弧源系统的的调试 | 第34-35页 |
| §3．2 磁过滤系统的调试 | 第35-36页 |
| §3．3 电源系统的调试 | 第36-43页 |
| §3．4 系统的统调 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 第四章 基片台悬浮电位的研究 | 第47-59页 |
| §4．1 实验现象的发现 | 第47-48页 |
| §4．2 对实验现象的分析 | 第48-52页 |
| §4．3 对实验现象的解析 | 第52-54页 |
| §4．4 该研究的物理意义 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 第五章 薄膜的初步制备及性能测试 | 第59-64页 |
| §5．1 引言 | 第59页 |
| §5．2 碳膜的制备与测试 | 第59-62页 |
| §5．3 实验结果分析 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第六章 结论及展望 | 第64-66页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |