| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-10页 |
| 前言 | 第10-17页 |
| 第一章 微束斑X射线源及X射线光学元件 | 第17-57页 |
| 1．1 电子束打靶微束斑X射线源 | 第17-20页 |
| 1．1．1 电子束打靶X射线源的发展 | 第17-19页 |
| 1．1．2 X射线管与X射线光学元件组合产生微束斑X射线源 | 第19页 |
| 1．1．3 聚焦电子束微束斑X射线源 | 第19-20页 |
| 1．2 同步辐射微束斑X射线源 | 第20-23页 |
| 1．2．1 同步辐射源 | 第20-21页 |
| 1．2．2 同步辐射微束斑X射线源 | 第21-23页 |
| 1．3 激光等离子体微束斑X射线源 | 第23-25页 |
| 1．3．1 飞秒脉冲激光等离子体X射线源 | 第23-24页 |
| 1．3．2 无碎屑激光等离子体X射线源 | 第24-25页 |
| 1．3．3 强激光与毛细管靶材作用产生微束斑X射线 | 第25页 |
| 1．4 聚焦离子束微束斑X射线源 | 第25-28页 |
| 1．5 X射线激光器 | 第28-32页 |
| 1．6 自由电子激光器 | 第32-35页 |
| 1．7 X射线光学元件 | 第35-44页 |
| 1．7．1 X射线掠入射反射镜 | 第35-36页 |
| 1．7．2 X射线布拉格反射镜 | 第36页 |
| 1．7．3 X射线多层膜反射镜 | 第36-37页 |
| 1．7．4 X射线波带片 | 第37-39页 |
| 1．7．5 毛细管X射线光学元件 | 第39-41页 |
| 1．7．6 X射线Bragg-Fresnel波带片 | 第41-42页 |
| 1．7．7 X射线多层膜光栅 | 第42页 |
| 1．7．8 X射线复合折射透镜 | 第42-44页 |
| 本章小结 | 第44-57页 |
| 第二章 微束斑X射线源的整体设计思想 | 第57-78页 |
| 2．1 电子发射系统的设计思想 | 第57-63页 |
| 2．1．1 阴极材料的选取 | 第58-62页 |
| 2．1．2 LaB_6阴极电子枪 | 第62-63页 |
| 2．2 电子束会聚系统的设计思想 | 第63-67页 |
| 2．3 靶的设计思想 | 第67-71页 |
| 2．4 微束斑X射线源整体结构 | 第71-75页 |
| 本章小结 | 第75-78页 |
| 第三章 微束斑X射线源的理论研究 | 第78-117页 |
| 3．1 电子束与物质相互作用辐射X射线 | 第78-80页 |
| 3．2 LaB_6阴极电子初始状态的确定 | 第80-84页 |
| 3．2．1 蒙特卡罗方法简介 | 第81-82页 |
| 3．2．2 阴极电子的初始状态 | 第82-84页 |
| 3．3 电子发射系统的理论分析 | 第84-93页 |
| 3．3．1 理论计算基础 | 第85-87页 |
| 3．3．2 数值计算 | 第87-90页 |
| 3．3．3 计算结果 | 第90-93页 |
| 3．3．4 结果讨论 | 第93页 |
| 3．4 磁聚焦系统的理论分析 | 第93-101页 |
| 3．4．1 有限元法求解磁场分布 | 第94-96页 |
| 3．4．2 磁聚焦系统数值分析 | 第96-100页 |
| 3．4．3 结果讨论 | 第100-101页 |
| 3．5 静电聚焦系统的理论计算 | 第101-107页 |
| 3．5．1 静电聚焦系统的理论基础 | 第101-105页 |
| 3．5．2 静电聚焦系统数值计算 | 第105-107页 |
| 3．5．3 计算结果与讨论 | 第107页 |
| 3．6 微束斑X射线源的最优设计 | 第107-113页 |
| 3．6．1 理论计算基础 | 第108-111页 |
| 3．6．1．1 场内任意点的电场强度 | 第109-110页 |
| 3．6．1．2 Runge-Kutta方法 | 第110-111页 |
| 3．6．2 计算结果 | 第111-113页 |
| 本章小结 | 第113-117页 |
| 第四章 微束斑X射线源的实验研究 | 第117-148页 |
| 4．1 微束斑X射线管的结构 | 第117-120页 |
| 4．2 工艺、关键部件的设计 | 第120-125页 |
| 4．2．1 阴极LaB_6单晶的加热 | 第121-122页 |
| 4．2．2 阴极安装高度 | 第122页 |
| 4．2．3 系统的对中与同轴 | 第122-123页 |
| 4．2．4 电极结构 | 第123-125页 |
| 4．2．5 金属靶材的选取与其它 | 第125页 |
| 4．3 关键的物理参量选取 | 第125-128页 |
| 4．3．1 阴极加热温度与阴极发射电流 | 第125-127页 |
| 4．3．2 栅极偏置电压 | 第127-128页 |
| 4．4 连续微束斑X射线源性能测试实验 | 第128-136页 |
| 4．4．1 高真空度工作环境的获取 | 第128-129页 |
| 4．4．2 X射线焦斑大小及亮度的测量 | 第129-130页 |
| 4．4．3 测试实验 | 第130-131页 |
| 4．4．4 实验结果 | 第131-135页 |
| 4．4．5 结果讨论分析 | 第135-136页 |
| 4．5 脉冲式微束斑X射线源 | 第136-145页 |
| 4．5．1 脉冲X射线源的发展 | 第136-138页 |
| 4．5．2 脉冲微束斑X射线源原理 | 第138-142页 |
| 4．5．3 实验结果 | 第142-144页 |
| 4．5．4 分析讨论 | 第144-145页 |
| 本章小结 | 第145-148页 |
| 第五章 微束斑X射线源改进及亚微米纳米级焦斑X射线源展望 | 第148-165页 |
| 5．1 微束斑X射线源的性能改进设想 | 第148-149页 |
| 5．2 电子场发射纳米级焦斑X射线源 | 第149-158页 |
| 5．2．1 场致发射电子枪 | 第150-152页 |
| 5．2．2 金刚石及类金刚石等阴极材料场发射X射线源 | 第152-155页 |
| 5．2．2．1 金刚石薄膜阴极材料 | 第152页 |
| 5．2．2．2 类金刚石（DLC）薄膜阴极材料 | 第152-153页 |
| 5．2．2．3 纳米金刚石颗粒阴极材料 | 第153页 |
| 5．2．2．4 金刚石、类金刚石等阴极场发射纳米级焦斑X射线源 | 第153-155页 |
| 5．2．3 碳纳米管阴极场发射纳米级焦斑X射线源 | 第155-158页 |
| 5．2．3．1 碳纳米管场发射阴极材料 | 第155-156页 |
| 5．2．3．2 碳纳米管阴极场发射电子枪 | 第156-157页 |
| 5．2．3．3 碳纳米管纳米级焦斑X射线源 | 第157-158页 |
| 5．3 金属液体阴极纳米级焦斑X射线源 | 第158-160页 |
| 本章小结 | 第160-165页 |
| 总结 | 第165-169页 |
| 致谢 | 第169-171页 |
| 附录（发表论文） | 第171页 |
