| 前言 | 第1-12页 |
| 1 绪论 | 第12-36页 |
| 1．1 镁及其合金表面处理工艺研究的目的和意义 | 第12-15页 |
| 1．1．1 镁及其合金的应用现状 | 第12-13页 |
| 1．1．2 镁及其合金表面处理工艺研究目的及意义 | 第13-15页 |
| 1．2 微弧氧化处理技术 | 第15-35页 |
| 1．2．1 微弧氧化处理技术的研究的特点及应用 | 第15-18页 |
| 1．2．2 微弧氧化技术研究概况 | 第18-19页 |
| 1．2．3 微弧氧化处理的机理 | 第19-22页 |
| 1．2．4 微弧氧化陶瓷层的制备工艺方法 | 第22-23页 |
| 1．2．5 微弧氧化的工艺流程 | 第23-25页 |
| 1．2．6 常用微弧氧化处理液的组成 | 第25-26页 |
| 1．2．7 影响陶瓷层制备的因素 | 第26-28页 |
| 1．2．8 陶瓷层的结构与性能 | 第28-29页 |
| 1．2．9 镁合金微弧氧化的尺寸变化规律 | 第29-30页 |
| 1．2．10 微弧氧化膜层性能测试 | 第30-34页 |
| 1．2．11 目前微弧氧化存在的问题 | 第34-35页 |
| 1．3 本课题研究的主要内容 | 第35-36页 |
| 2 试验方案的设计 | 第36-42页 |
| 2．1 配方的初选试验方案设计 | 第36-39页 |
| 2．1．1 微弧氧化处理液配方初选试验方案设计 | 第36-37页 |
| 2．1．2 微弧氧化处理液配方优化的试验方案设计 | 第37-39页 |
| 2．2 工艺优化的试验方案设计 | 第39-40页 |
| 2．3 试验技术路线 | 第40-42页 |
| 3 试验材料与方法 | 第42-46页 |
| 3．1 试验用材料及试样制备 | 第42-43页 |
| 3．1．1 材料成分 | 第42页 |
| 3．1．2 物理性能 | 第42页 |
| 3．1．3 试样尺寸与制备 | 第42-43页 |
| 3．2 实验设备仪器 | 第43-44页 |
| 3．2．1 微弧氧化设备 | 第43页 |
| 3．2．2 腐蚀试验所用设备 | 第43-44页 |
| 3．3 微弧氧化溶液的配制 | 第44页 |
| 3．4 微弧氧化陶瓷层的性能检验 | 第44-46页 |
| 3．4．1 外观检验 | 第44页 |
| 3．4．2 耐蚀性检验 | 第44-45页 |
| 3．4．3 陶瓷膜层结构的检测与分析 | 第45-46页 |
| 4 试验结果与分析 | 第46-98页 |
| 4．1 配方初选与结果分析 | 第46-49页 |
| 4．1．1 PH值调节剂的选择 | 第47页 |
| 4．1．2 性能改善剂的选择 | 第47-48页 |
| 4．1．3 辅助添加剂的选择 | 第48页 |
| 4．1．4 各组配方成份的确定 | 第48-49页 |
| 4．2 硅酸盐体系配方微弧氧化试验结果与分析 | 第49-60页 |
| 4．2．1 硅酸盐体系配方优化试验 | 第49-55页 |
| 4．2．2 硅酸盐体系配方优化试验结果分析 | 第55-56页 |
| 4．2．3 硅酸盐体系配方工艺优化结果 | 第56-60页 |
| 4．3 六偏磷酸盐体系配方微弧氧化试验结果与分析 | 第60-68页 |
| 4．3．1 六偏磷酸盐体系配方优化试验 | 第60-64页 |
| 4．3．2 六偏磷酸盐体系配方优化试验结果 | 第64页 |
| 4．3．3 六偏磷酸盐体系工艺优化 | 第64-68页 |
| 4．4 磷酸盐体系配方微弧氧化试验结果与分析 | 第68-75页 |
| 4．4．1 磷酸盐体系配方优化试验 | 第68-71页 |
| 4．4．2 磷酸盐体系配方优化试验结果 | 第71-72页 |
| 4．4．3 磷酸盐体系配方工艺优化 | 第72-75页 |
| 4．5 阶段总结 | 第75-78页 |
| 4．5．1 配方及工艺优化结果总结 | 第75-76页 |
| 4．5．2 优化复合系配方 | 第76-78页 |
| 4．6 镁合金微弧氧化膜层结构及生长规律的研究 | 第78-82页 |
| 4．6．1 镁合金微弧氧化膜层的一般结构 | 第78-79页 |
| 4．6．2 膜层生长规律 | 第79-80页 |
| 4．6．3 膜层的相结构变化规律 | 第80-81页 |
| 4．6．4 小结 | 第81-82页 |
| 4．7 镁合金微弧氧化膜层耐蚀性及其影响因素 | 第82-98页 |
| 4．7．1 氧化时间对耐蚀性的影响 | 第82-84页 |
| 4．7．2 电流密度对耐蚀性的影响 | 第84-85页 |
| 4．7．3 微弧氧化频率对膜层耐蚀性的影响 | 第85-88页 |
| 4．7．4 微弧氧化电流占空比对膜层耐蚀性的影响 | 第88-90页 |
| 4．7．5 不同电解液对耐蚀性的影响 | 第90-93页 |
| 4．7．6 不同封孔液对耐蚀性的影响 | 第93-94页 |
| 4．7．7 硅酸盐系与复合系氧化膜封孔与不封孔耐蚀性比较 | 第94-95页 |
| 4．7．8 微弧氧化膜与铬酸盐处理膜耐蚀性比较 | 第95-97页 |
| 4．7．9 阶段小结 | 第97-98页 |
| 5 微弧氧化机理探讨与分析 | 第98-103页 |
| 5．1 微弧氧化机理的探讨 | 第98-100页 |
| 5．1．1 微弧氧化基本机理 | 第98-99页 |
| 5．1．2 微弧氧化成膜机理分析 | 第99-100页 |
| 5．2 微弧氧化膜层形成热力学及电化学条件 | 第100-103页 |
| 5．2．1 氧化镁形成的热力学条件 | 第100-101页 |
| 5．2．2 氧化镁形成的电化学条件 | 第101-103页 |
| 6 结论 | 第103-105页 |
| 致谢 | 第105-106页 |
| 参考文献 | 第106-110页 |
| 附录 | 第110页 |