提要 | 第1-9页 |
第一章 绪论 | 第9-42页 |
第一节 图案化技术 | 第10-26页 |
·传统光刻技术(OPTICAL LITHOGRAPHY) | 第10-14页 |
·非传统光刻技术 | 第14-26页 |
·扫描探针印刷技术(SCANNING PROBE LITHOGRAPHY) | 第14-16页 |
·物理接触复模技术(PHYSICAL-CONTACTED REPLICATION) | 第16-22页 |
·边缘印刷技术(EDGE LITHOGRAPHY) | 第22-23页 |
·自组装(SELF-ASSEMBLY)图案化技术 | 第23-25页 |
·可控沉积(CONTROLLED DEPOSITION) 图案化技术 | 第25-26页 |
第二节 胶体晶体辅助的图案化技术 | 第26-40页 |
·胶体晶体(COLLOIDAL CRYSTAL) | 第26-29页 |
·基于胶体晶体构筑三维微结构 | 第29-31页 |
·以胶体晶体为模板构筑三维多孔结构 | 第29-30页 |
·三维胶体晶体中缺陷的构筑 | 第30-31页 |
·模板限域、诱导胶体微球组装 | 第31-34页 |
·胶体晶体刻蚀技术(COLLOIDAL LITHOGRAPHY,CL) | 第34-40页 |
·以胶体晶体为模板在基底表面构筑有序图案 | 第35-39页 |
·以胶体微球为介质构筑纳微米结构/图案 | 第39-40页 |
第三节 本论文的选题及设计思路 | 第40-42页 |
第二章 利用胶体晶体构筑可控的二维非紧密聚合物微井阵列 | 第42-66页 |
第一节 引言 | 第42-43页 |
第二节 实验部分 | 第43-47页 |
·实验材料 | 第43-44页 |
·实验流程及方法 | 第44-47页 |
·实验流程 | 第44-45页 |
·有序胶体晶体的组装 | 第45页 |
·PDMS平板模具的制备 | 第45页 |
·通过微接触印刷构造二维非紧密堆积的胶体晶体模板 | 第45-46页 |
·非紧密二氧化硅微球表面亲、疏水修饰 | 第46页 |
·非紧密PDMS 微井阵列的构筑 | 第46页 |
·非紧密微透镜阵列的构筑 | 第46-47页 |
·仪器设备 | 第47页 |
第三节 结果与讨论 | 第47-64页 |
·二维非紧密胶体微球阵列 | 第47-49页 |
·PDMS微井阵列的形貌分析 | 第49-50页 |
·PDMS微井深度的影响因素 | 第50-55页 |
·PDMS 预聚体的配比对微井深度的影响 | 第50-51页 |
·二氧化硅微球周期对微井结构深度的影响 | 第51-53页 |
·二氧化硅微球表面性质对微井深度的影响 | 第53-55页 |
·非紧密微井结构形成机理 | 第55-61页 |
·表面润湿现象 | 第55-57页 |
·非紧密微井形成机理 | 第57-61页 |
·四方排列的PDMS 微井阵列的构筑 | 第61-62页 |
·非紧密微透镜阵列的构筑及其减反射性质 | 第62-64页 |
第四节 本章小结 | 第64-66页 |
第三章 利用层状光聚合组装方法构筑三维非紧密胶体晶体 | 第66-86页 |
第一节 引言 | 第66-67页 |
第二节 实验部分 | 第67-72页 |
·实验材料 | 第67-68页 |
·实验流程及方法 | 第68-71页 |
·实验流程 | 第68-69页 |
·有序二维非紧密胶体晶体的构筑 | 第69页 |
·PDMS模具的制备 | 第69-70页 |
·光固化树脂单体粘度的调节 | 第70-71页 |
·含有有序二维胶体微球的光固化树脂膜层的制备 | 第71页 |
·利用层状光聚合组装技术构筑三维非紧密胶体晶体 | 第71页 |
·仪器设备 | 第71-72页 |
第三节 结果与讨论 | 第72-84页 |
·光固化树脂膜层内的二维非紧密胶体微球的形貌特征 | 第72-74页 |
·热处理温度对微球形貌的影响 | 第74-76页 |
·三维非紧密胶体晶体的构造 | 第76-78页 |
·三维非紧密胶体晶体层间距的控制 | 第78-81页 |
·光固化树脂单体粘度对三维胶体晶体层间距的影响 | 第78-80页 |
·压力对三维非紧密胶体晶体层间距的影响 | 第80-81页 |
·多种三维非紧密胶体晶体的构造 | 第81-84页 |
第四节 本章小结 | 第84-86页 |
第四章 RIE辅助构筑可控的硅纳米碗、纳米环及其微结构的拓扑 | 第86-109页 |
第一节 引言 | 第86-87页 |
第二节 实验部分 | 第87-92页 |
·实验材料 | 第87-88页 |
·实验流程及方法 | 第88-91页 |
·实验流程 | 第88页 |
·含有有序二维非紧密胶体微球的光固化树脂膜层的制备 | 第88-89页 |
·二氧化硅纳米碗、纳米环阵列的制备 | 第89页 |
·独立的、分散的二氧化硅纳微结构的制备 | 第89-90页 |
·利用沉积技术制备AG - SIO_2 复合纳米碗及微结构的拓扑 | 第90-91页 |
·仪器设备 | 第91-92页 |
第三节 结果与讨论 | 第92-108页 |
·二氧化硅纳米碗、纳米环的阵列 | 第92-96页 |
·独立的、分散的二氧化硅纳米碗、纳米环形貌 | 第96-98页 |
·二氧化硅微粒形貌转变机制 | 第98-101页 |
·多尺度硅纳米碗、纳米环的制备 | 第101-102页 |
·利用沉积技术构筑AG-SIO_2 复合纳米碗 | 第102-106页 |
·利用化学沉积技术制备AG-SIO_2 复合纳米碗 | 第102-105页 |
·利用物理沉积技术制备AG-SIO_2 复合纳米碗阵列 | 第105-106页 |
·利用物理沉积技术拓扑金纳米碗 | 第106-108页 |
第四节 本章小结 | 第108-109页 |
参考文献 | 第109-120页 |
致谢 | 第120-121页 |
作者简历 | 第121-122页 |
攻读博士学位期间发表或已投论文 | 第122-123页 |
中文摘要 | 第123-126页 |
英文摘要 | 第126-128页 |