| 摘要 | 第1-10页 |
| ABSTRACT | 第10-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-28页 |
| ·纳米晶TiO_2多孔薄膜的光电转化基础 | 第15-16页 |
| ·纳米晶TiO_2薄膜的制备 | 第16-17页 |
| ·常压等离子化学气相沉积 | 第17-26页 |
| ·等离子体概述 | 第17-21页 |
| ·等离子体化学气相沉积技术的基本特征 | 第21页 |
| ·常压等离子化学气相沉积薄膜 | 第21-24页 |
| ·影响常压等离子化学气相沉积的工艺参数 | 第24-25页 |
| ·等离子体介质阻挡放电的现状和存在的问题 | 第25-26页 |
| ·本文的研究内容与目标 | 第26-28页 |
| 第2章 实验设计 | 第28-34页 |
| ·常压等离子化学气相沉积薄膜实验 | 第28-32页 |
| ·实验装置及实验步骤 | 第28-29页 |
| ·常压介质阻挡放电电压-电流参量的测定 | 第29-30页 |
| ·常压介质阻挡放电功率参量的测定 | 第30-31页 |
| ·等离子体发射光谱的诊断研究及电子激发温度的测定 | 第31-32页 |
| ·反应气体与单体原料 | 第32页 |
| ·纳米薄膜表征 | 第32-34页 |
| ·薄膜的沉积速率 | 第32页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第32-33页 |
| ·薄膜的结晶形态及结晶度 | 第33页 |
| ·薄膜的化学组成及化学结构 | 第33-34页 |
| 第3章 常压等离子化学气相沉积放电过程研究 | 第34-56页 |
| ·介质阻挡放电的过程与特征 | 第34-38页 |
| ·丝状放电 | 第34-36页 |
| ·大气压辉光放电 | 第36-38页 |
| ·介质阻挡放电的物理过程 | 第38-40页 |
| ·介质表面电荷对后续放电的影响 | 第40-41页 |
| ·介质阻挡放电特性分析 | 第41-44页 |
| ·介质阻挡放电功率的测量 | 第44-49页 |
| ·介质阻挡放电功率 | 第44-46页 |
| ·李萨如图形测量原理 | 第46-48页 |
| ·李萨如图形测量结果及讨论 | 第48-49页 |
| ·介质阻挡放电发射光谱诊断研究 | 第49-54页 |
| 本章小结 | 第54-56页 |
| 第4章 常压等离子化学气相沉积薄膜的表征 | 第56-71页 |
| ·薄膜均匀性及沉积速率 | 第56-59页 |
| ·薄膜厚度分布情况 | 第56-58页 |
| ·薄膜的沉积速率 | 第58-59页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第59-62页 |
| ·TiCl_4流量对薄膜沉积形态的影响 | 第59-60页 |
| ·衬底偏压对薄膜的表面形貌的影响 | 第60-62页 |
| ·薄膜的化学组成分析 | 第62-64页 |
| ·薄膜的化学结构分析 | 第64-65页 |
| ·薄膜的结晶分析 | 第65-69页 |
| ·偏光显微镜(Polarizing Microscope)观察薄膜结晶形态 | 第66-68页 |
| ·X射线衍射谱(XRD)测试 | 第68-69页 |
| 本章小结 | 第69-71页 |
| 第5章 结论 | 第71-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 研究生在读期间学术论文发表及专利申请情况 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |