纳米TiN粉末及多孔状TiN的直流电弧制备与表征
| 提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-31页 |
| ·纳米材料的概述 | 第7-16页 |
| ·纳米材料的发展 | 第7-8页 |
| ·纳米材料的结构 | 第8页 |
| ·纳米材料的性质 | 第8-10页 |
| ·纳米材料的制备方法 | 第10-15页 |
| ·纳米材料的应用 | 第15-16页 |
| ·纳米陶瓷复合材料的研究及进展 | 第16-19页 |
| ·目前陶瓷材料的发展趋势 | 第16-17页 |
| ·陶瓷复合材料的增韧机制 | 第17页 |
| ·陶瓷复合材料的制备原理 | 第17-18页 |
| ·纳米陶瓷复合材料的制备 | 第18-19页 |
| ·直流电弧及性能 | 第19-29页 |
| ·电弧理论概述 | 第19-21页 |
| ·电弧的定义 | 第21页 |
| ·电弧的分类 | 第21-22页 |
| ·电弧的应用 | 第22页 |
| ·直流电弧理论的发展 | 第22-23页 |
| ·直流电弧装置及其性能 | 第23-24页 |
| ·直流电弧温度场的分布 | 第24-26页 |
| ·直流电弧速度场的分布 | 第26-28页 |
| ·直流电弧的电离度分布 | 第28-29页 |
| ·选题的意义、内容和所用仪器 | 第29-31页 |
| ·选题的意义 | 第29页 |
| ·选题的内容 | 第29页 |
| ·实验中所用的主要仪器 | 第29-31页 |
| 第二章 纳米粉末的制备与表征 | 第31-46页 |
| ·TiN 材料的研究现状 | 第31-32页 |
| ·TiN 的性能 | 第32-33页 |
| ·TiN 纳米粉体的制备 | 第33-35页 |
| ·样品的制备 | 第33页 |
| ·实验装置及实验过程 | 第33-35页 |
| ·TiN 纳米粉体的表征 | 第35-40页 |
| ·样品的表征 | 第35页 |
| ·纳米粉末的X 射线表征 | 第35-37页 |
| ·纳米粉末的TEM 表征 | 第37-38页 |
| ·纳米粉末的SEM 表征 | 第38-39页 |
| ·电弧放电法制备纳米粉末的生成机制 | 第39-40页 |
| ·TiN 陶瓷的压制 | 第40-41页 |
| ·实验装置 | 第40-41页 |
| ·实验过程 | 第41页 |
| ·TiN 陶瓷的表征 | 第41-45页 |
| ·陶瓷的SEM 表征 | 第41-42页 |
| ·TiN 陶瓷的X 射线表征 | 第42-43页 |
| ·TiN 陶瓷的维氏硬度表征 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第三章 多孔状TiN 的制备与表征 | 第46-52页 |
| ·多孔状TiN 的制备 | 第46-47页 |
| ·样品的制备 | 第46页 |
| ·实验装置及实验过程 | 第46-47页 |
| ·多孔状TiN 的表征 | 第47-51页 |
| ·多孔状TiN 的X 射线表征 | 第47-48页 |
| ·多孔状TiN 的TEM 表征 | 第48-49页 |
| ·多孔状TiN 的SEM 表征 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 多孔状TiN 的形成规律讨论 | 第52-58页 |
| ·温度场对TiN 块体形貌的影响 | 第52-56页 |
| ·TiN 的块状以及片状形貌 | 第52-54页 |
| ·TiN 的孔状结构 | 第54-55页 |
| ·颗粒状TiN 的出现 | 第55页 |
| ·纳米级TiN 的最终出现 | 第55-56页 |
| ·大气压强对多孔状TiN 形成的影响 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 摘要 | 第63-64页 |
| abstract | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
