| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-27页 |
| ·等离子体简介 | 第10-15页 |
| ·等离子体的基本概念 | 第10页 |
| ·等离子体的主要特征量 | 第10-13页 |
| ·等离子体的应用 | 第13-15页 |
| ·等离子电弧简介 | 第15-17页 |
| ·等离子弧的产生原理 | 第15-16页 |
| ·等离子弧的三大压缩效应 | 第16-17页 |
| ·等离子喷涂技术 | 第17-23页 |
| ·等离子喷涂技术概述 | 第17页 |
| ·等离子喷涂技术原理 | 第17-18页 |
| ·等离子弧喷涂技术特点 | 第18-19页 |
| ·等离子弧喷涂的研究进展 | 第19-22页 |
| ·等离子弧喷涂设备的介绍 | 第22-23页 |
| ·等离子喷涂温度场和流场的测量方法 | 第23-26页 |
| ·利用计算机数值模拟对等离子弧的分析 | 第23-24页 |
| ·利用多路热电偶对激光多层涂敷过程温度场的实时测量 | 第24-25页 |
| ·CCD 数字图像处理电弧温度场测量系统的研究 | 第25页 |
| ·PIV 二维流场测量技术 | 第25页 |
| ·高速流场测量新技术 | 第25-26页 |
| ·本课题的目的和主要研究工作 | 第26-27页 |
| 第二章 等离子喷涂枪的结构设计 | 第27-42页 |
| ·等离子喷涂枪的基本结构介绍 | 第27-28页 |
| ·等离子喷涂枪基本参数的选择 | 第28页 |
| ·等离子喷涂枪的结构设计要求 | 第28-29页 |
| ·等离子喷涂枪的结构设计 | 第29-41页 |
| ·喷嘴结构的设计 | 第30-31页 |
| ·阴极（钨极）及其夹持机构的设计 | 第31-33页 |
| ·喷涂枪绝缘体的结构设计 | 第33-34页 |
| ·喷涂枪喷嘴底座的结构设计 | 第34-35页 |
| ·喷涂枪的端帽和手柄的结构设计 | 第35-36页 |
| ·喷涂枪的进水部分和出水部分的结构设计 | 第36-37页 |
| ·喷涂枪进气部分的结构设计 | 第37-38页 |
| ·喷涂枪冷却水道的结构设计 | 第38-39页 |
| ·喷涂枪气体通道的结构设计 | 第39-40页 |
| ·喷涂枪密封结构的设计 | 第40-41页 |
| ·等离子喷涂枪送粉方式的选择 | 第41-42页 |
| 第三章 喷嘴水冷却系统参数的分析与测量 | 第42-52页 |
| ·实验所用的相关设备 | 第42-45页 |
| ·等离子喷涂设备控制柜 | 第42-45页 |
| ·数字显示温度调节仪 | 第45页 |
| ·喷嘴部分的实验设计 | 第45-47页 |
| ·喷嘴水冷却系统的实验方案 | 第47-49页 |
| ·实验工艺参数的确定 | 第49-50页 |
| ·实验测量结果及分析 | 第50-52页 |
| 第四章 喷嘴水冷却系统的数值模拟 | 第52-72页 |
| ·FLUENT 软件介绍 | 第52-53页 |
| ·等离子喷涂枪喷嘴水冷却系统模型的建立 | 第53-59页 |
| ·基本假设 | 第53-54页 |
| ·建模分析 | 第54-55页 |
| ·初始条件及参数设定 | 第55页 |
| ·FLUENT 相关程序设置 | 第55-59页 |
| ·数值计算结果及分析 | 第59-72页 |
| ·不同模型计算结果分析 | 第59-60页 |
| ·实测和模拟部分的比较分析 | 第60-64页 |
| ·不同进水方式的比较 | 第64-68页 |
| ·不同喷嘴结构对喷枪性能的影响 | 第68-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 在学研究成果 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |