| 论文摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-24页 |
| 第一节 半导体光催化剂及其机理 | 第13-15页 |
| ·光催化的机理 | 第13页 |
| ·半导体光催化剂 | 第13-15页 |
| 第二节 半导体光催化剂的应用现状 | 第15-17页 |
| ·光催化活性纳米粉体 | 第16页 |
| ·半触媒喷涂液 | 第16页 |
| ·紧凑型家用光触媒装置 | 第16页 |
| ·自清洁玻璃 | 第16-17页 |
| ·柔性光触媒薄膜 | 第17页 |
| 第三节 半导体光催化剂改性的进展 | 第17-20页 |
| ·光催化剂改性的目的 | 第17页 |
| ·减小晶粒尺寸 | 第17-18页 |
| ·形成缺陷能级 | 第18页 |
| ·开发新型窄带半导体材料 | 第18页 |
| ·开发具有层状结构的新型半导体材料 | 第18页 |
| ·多相氧化物结构 | 第18-19页 |
| ·贵金属表面沉积 | 第19页 |
| ·光敏化体系 | 第19-20页 |
| 第四节 半导体光催化剂的结构和性能表征 | 第20-21页 |
| ·热重分析 | 第20页 |
| ·X射线衍射分析 | 第20页 |
| ·紫外可见吸收光谱分析 | 第20-21页 |
| ·光致发光谱分析 | 第21页 |
| 第五节 本论文的意义和研究内容 | 第21-24页 |
| 第二章 退火条件对ZnO及其光催化剂性能的影响 | 第24-34页 |
| 第一节 引言 | 第24页 |
| 第二节 实验部分 | 第24-25页 |
| ·溶胶的制备 | 第24页 |
| ·薄膜的制备 | 第24页 |
| ·表征 | 第24-25页 |
| ·光催化活性检验 | 第25页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第25-33页 |
| ·制备过程中材料的结构表征 | 第25-27页 |
| ·不同退火工艺下ZnO薄膜的光学性质 | 第27-29页 |
| ·不同退火工艺下ZnO薄膜的光催化性质 | 第29-31页 |
| ·热处理过程中的动力学研究及HTST的优势 | 第31-32页 |
| ·混晶效应及其对光催化活性的影响 | 第32-33页 |
| 第四节 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 光催化中的腐蚀现象研究 | 第34-42页 |
| 第一节 引言 | 第34页 |
| 第二节 实验部分 | 第34-35页 |
| ·氧化锌薄膜和银改性氧化锌薄膜的制备 | 第34页 |
| ·材料腐蚀情况和光催化性能的测试 | 第34页 |
| ·薄膜的表征和腐蚀情况的检测 | 第34-35页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第35-41页 |
| ·氧化锌薄膜的腐蚀类型 | 第35页 |
| ·腐蚀的动力学 | 第35-37页 |
| ·pH对腐蚀速率的影响 | 第37-39页 |
| ·盐度对腐蚀速率的影响 | 第39页 |
| ·腐蚀对氧化锌光催化活性的影响 | 第39-40页 |
| ·银改性氧化锌的腐蚀行为 | 第40-41页 |
| 第四节 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 两种类型的镍改性氧化锌薄膜的结构和光催化活性 | 第42-52页 |
| 第一节 引言 | 第42页 |
| 第二节 实验部分 | 第42-44页 |
| ·前驱体溶胶的制备 | 第42-43页 |
| ·薄膜的制备 | 第43页 |
| ·表征方法 | 第43页 |
| ·光催化的测试 | 第43-44页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第44-51页 |
| ·XRD谱图 | 第44-46页 |
| ·SEM形貌 | 第46-47页 |
| ·紫外—可见透射光谱 | 第47页 |
| ·光致发光谱 | 第47-48页 |
| ·光催化活性 | 第48-51页 |
| 第四节 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 微电极结构三层复合膜的制备及光催化性能的研究 | 第52-60页 |
| 第一节 引言 | 第52页 |
| 第二节 实验部分 | 第52-53页 |
| ·前驱体溶胶的制备 | 第52页 |
| ·制备薄膜 | 第52-53页 |
| ·结构与性能的表征 | 第53页 |
| ·光催化的测试 | 第53页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第53-59页 |
| ·XRD谱图 | 第53-54页 |
| ·SEM形貌 | 第54-55页 |
| ·UV-vis分析 | 第55-56页 |
| ·PL光谱分析 | 第56-57页 |
| ·样品的光催化活性 | 第57-59页 |
| 第四节 本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 已完成的科研成果 | 第65-66页 |
| 后记 | 第66页 |