| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| ·磁学发展概述 | 第12-13页 |
| ·磁性材料宏观现象及能量表述 | 第13-18页 |
| ·居里温度及自发磁化的交换能量表述 | 第14-15页 |
| ·磁各向异性的能量表述 | 第15-17页 |
| ·磁畴及畴壁 | 第17页 |
| ·磁滞现象 | 第17-18页 |
| ·静态磁性参数——矫顽力 | 第18-20页 |
| ·动态磁性特征参数 | 第20-23页 |
| ·复数磁导率 | 第21-22页 |
| ·动态磁化过程中的损耗 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-25页 |
| 第二章 纳米软磁薄膜 | 第25-38页 |
| ·磁性纳米材料概述 | 第25-28页 |
| ·纳米材料的基本概念 | 第25页 |
| ·磁性纳米材料及其特性 | 第25-28页 |
| ·软磁纳米薄膜的特性及其应用 | 第28-30页 |
| ·衡量软磁材料性能的指标 | 第28-29页 |
| ·软磁材料的应用范畴 | 第29页 |
| ·软磁薄膜的交流应用特点 | 第29-30页 |
| ·高频软磁性薄膜的应用 | 第30-35页 |
| ·在磁记录技术中的应用 | 第30-33页 |
| ·在薄膜电感中的应用 | 第33-34页 |
| ·在微波吸收器中的应用 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-38页 |
| 第三章 样品的制备及其性能表征 | 第38-57页 |
| ·样品的制备 | 第38-42页 |
| ·磁控射频溅射 | 第38-40页 |
| ·薄膜沉积装置 | 第40-41页 |
| ·基片 | 第41-42页 |
| ·溅射用靶 | 第42页 |
| ·样品性能的表征 | 第42-54页 |
| ·厚度的测定 | 第43-44页 |
| ·成分的测定 | 第44-46页 |
| ·磁性的测量 | 第46-48页 |
| ·晶体结构分析 | 第48-51页 |
| ·表面形貌观测技术 | 第51-52页 |
| ·畴结构观察 | 第52-53页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第53页 |
| ·电阻率的测量 | 第53-54页 |
| ·动态磁性测量 | 第54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 第四章 FeCoAlO薄膜的结构和性能 | 第57-80页 |
| ·FeCo软磁性薄膜 | 第57-59页 |
| ·样品的制备 | 第59页 |
| ·FeCoAlO薄膜的静磁特性 | 第59-66页 |
| ·FeCoAlO薄膜的成分 | 第59-60页 |
| ·Al_2O_3添加对薄膜静态磁性的影响 | 第60-62页 |
| ·Al_2O_3添加对薄膜微结构的影响 | 第62-64页 |
| ·软磁特性的改善——随机各向异性模型 | 第64-66页 |
| ·制备条件对薄膜静磁特性和微结构的影响 | 第66-73页 |
| ·溅射功率 | 第66-69页 |
| ·溅射气压 | 第69-72页 |
| ·溅射时间 | 第72-73页 |
| ·FeCoAlO薄膜的频率特性 | 第73-76页 |
| 小结 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-80页 |
| 第五章 FeCoAlOC薄膜的结构与性能 | 第80-101页 |
| ·利用高纯度石墨引入C元素 | 第80-83页 |
| ·利用有机物引入C元素 | 第83-92页 |
| ·C元素添加对薄膜微结构和静磁特性的影响 | 第83-87页 |
| ·C元素添加对FeCoAlOC薄膜高频响应特性的影响 | 第87-92页 |
| ·对非晶FeCoAlOC薄膜的晶化处理 | 第92-99页 |
| ·低速升温热处理对薄膜微结构和磁性能的影响 | 第92-95页 |
| ·快速升温热处理对薄膜微结构和磁性能的影响 | 第95-99页 |
| 小结 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-101页 |
| 第六章 FeCoAlON薄膜 | 第101-110页 |
| ·样品的制备 | 第101页 |
| ·N添加对薄膜磁性的影响 | 第101-106页 |
| ·条形畴对高频特性的影响 | 第106-107页 |
| 小结 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-110页 |
| 第七章 结论 | 第110-113页 |
| 发表论文情况 | 第113-114页 |
| 致谢 | 第114页 |