| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 序言 | 第8-34页 |
| ·磁性材料背景 | 第8-19页 |
| ·物质磁性的来源 | 第8-13页 |
| ·物质磁性的分类 | 第13-14页 |
| ·铁氧体材料的分类 | 第14-19页 |
| ·钡铁氧体磁性材料 | 第19-28页 |
| ·钡铁氧体的结构及性能 | 第19-20页 |
| ·钡铁氧体薄膜的应用 | 第20-22页 |
| ·钡铁氧体薄膜的研究进展及现状 | 第22-28页 |
| ·本文的研究内容及意义 | 第28-31页 |
| 参考文献 | 第31-34页 |
| 第二章 BaFe_(12)O_(19)薄膜的制备与表征 | 第34-48页 |
| ·磁控溅射技术 | 第34-38页 |
| ·磁控溅射特性 | 第34页 |
| ·磁控溅射原理 | 第34-37页 |
| ·实验装置 | 第37-38页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第38-41页 |
| ·靶的制备 | 第38-39页 |
| ·衬底的清洗 | 第39页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第39-41页 |
| ·薄膜样品的表征 | 第41-47页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第41页 |
| ·磁性测量 | 第41-42页 |
| ·膜厚的测试 | 第42-43页 |
| ·表面形貌测试 | 第43-45页 |
| ·微波性能测试 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第三章 Si 衬底上制备BaFe_(12)O_(19)薄膜的研究 | 第48-63页 |
| ·溅射功率对制备薄膜的影响 | 第48-52页 |
| ·工作气压对制备薄膜的影响 | 第52-54页 |
| ·退火温度对薄膜结晶的影响 | 第54-57页 |
| ·靶材中钡的含量对制备薄膜的影响 | 第57-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-63页 |
| 第四章c 轴取向BaFe_(12)O_(19)薄膜的制备及性能分析 | 第63-89页 |
| ·Pt 层作过渡层制备c 轴择优取向的BaFe_(12)O_(19) 薄膜 | 第64-79页 |
| ·薄膜样品制备 | 第64-66页 |
| ·不同温度下退火的薄膜样品结构与性能分析 | 第66-69页 |
| ·不同厚度的BaFe_(12)O_(19) 薄膜结构与性能分析 | 第69-73页 |
| ·Pt 层厚度对BaFe_(12)O_(19) 薄膜生长取向结构及性能的影响 | 第73-79页 |
| ·YSZ 层作过渡层制备c 轴择优取向的BaFe_(12)O_(19) 薄膜 | 第79-85页 |
| ·薄膜样品制备 | 第79-81页 |
| ·薄膜样品结构与性能的对比分析 | 第81-85页 |
| ·小结 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-89页 |
| 第五章 总结 | 第89-91页 |
| 攻读硕士期间公开发表的论文 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
