WO＿（3-x）薄膜的制备及其光催化性能的研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-10页 |
| 1文献综述 | 第10-26页 |
| 1.1氧化钨光催化技术 | 第10-12页 |
| 1.1.1氧化钨的基本性质 | 第10-11页 |
| 1.1.2氧化钨光催化原理 | 第11-12页 |
| 1.2纳米氧化钨薄膜 | 第12-15页 |
| 1.2.1纳米氧化钨薄膜的定义 | 第12-13页 |
| 1.2.2纳米氧化钨薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
| 1.3氧缺陷型纳米氧化钨薄膜 | 第15-18页 |
| 1.3.1缺陷的定义 | 第15-16页 |
| 1.3.2氧缺陷型纳米氧化钨薄膜的构筑方法 | 第16页 |
| 1.3.3氧缺陷对纳米氧化钨薄膜的影响 | 第16-18页 |
| 1.4贵金属纳米颗粒沉积氧化钨薄膜 | 第18-22页 |
| 1.4.1贵金属纳米材料 | 第18-19页 |
| 1.4.2贵金属纳米颗粒的特性 | 第19-21页 |
| 1.4.3贵金属纳米颗粒修饰光催化剂 | 第21-22页 |
| 1.5氧化钨光催化剂的应用 | 第22-24页 |
| 1.5.1光催化氧化脱硫 | 第22页 |
| 1.5.2光催化水分解制氢 | 第22页 |
| 1.5.3光催化染料降解 | 第22-23页 |
| 1.5.4光催化环己烷氧化 | 第23-24页 |
| 1.6本课题的选题意义、内容和创新点 | 第24-26页 |
| 1.6.1选题意义 | 第24-25页 |
| 1.6.2研究内容 | 第25页 |
| 1.6.3创新点 | 第25-26页 |
| 2制备方法与表征手段 | 第26-32页 |
| 2.1实验主要试剂 | 第26-27页 |
| 2.2实验主要设备 | 第27页 |
| 2.3钠钙硅玻璃上WO3-x薄膜的制备 | 第27-28页 |
| 2.4钠钙硅玻璃上WO3-x/Ag薄膜的制备 | 第28页 |
| 2.5表征方法 | 第28-29页 |
| 2.6可见光催化降解亚甲基蓝 | 第29-30页 |
| 2.7可见光催化环己烷氧化 | 第30-32页 |
| 3氧缺陷型氧化钨薄膜及其光催化性能 | 第32-42页 |
| 3.1钠钙硅玻璃上WO3-x薄膜的表征 | 第32-38页 |
| 3.1.1原子力显微镜（AFM） | 第32-33页 |
| 3.1.2扫描电镜分析（SEM） | 第33-34页 |
| 3.1.3X-射线光电子能谱分析（XPS） | 第34-36页 |
| 3.1.4紫外-可见分光分析（UV-Vis） | 第36页 |
| 3.1.5紫外光电子能谱分析（UPS） | 第36-37页 |
| 3.1.6荧光光谱分析（PL） | 第37-38页 |
| 3.2光催化性能测试 | 第38-41页 |
| 3.2.1可见光催化降解亚甲基蓝性能 | 第38-39页 |
| 3.2.2可见光催化环己烷氧化性能 | 第39-41页 |
| 3.3本章小结 | 第41-42页 |
| 4Ag修饰氧缺陷型氧化钨薄膜及其光催化性能 | 第42-51页 |
| 4.1Ag修饰WO3-x薄膜的表征 | 第42-46页 |
| 4.1.1扫描电镜分析（SEM） | 第42页 |
| 4.1.2X-射线衍射分析（XRD） | 第42-43页 |
| 4.1.3X-射线光电子能谱分析（XPS） | 第43-44页 |
| 4.1.4紫外-可见分光分析（UV-vis） | 第44-45页 |
| 4.1.5荧光光谱分析（PL） | 第45-46页 |
| 4.2光催化性能及反应机理分析 | 第46-49页 |
| 4.2.1光催化性能测试 | 第46-49页 |
| 4.2.2光催化机理分析 | 第49页 |
| 4.3本章小结 | 第49-51页 |
| 5结论与展望 | 第51-53页 |
| 5.1结论 | 第51-52页 |
| 5.2展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
