| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| ·光子晶体概念及其特性 | 第8-11页 |
| ·光子晶体简介 | 第8-10页 |
| ·光子晶体的特性 | 第10-11页 |
| ·光子晶体的发展历程和研究现状 | 第11-13页 |
| ·光子晶体的发展历程 | 第11-12页 |
| ·光子晶体的研究现状 | 第12-13页 |
| ·光子晶体的应用 | 第13-15页 |
| ·本论文的研究内容和章节安排 | 第15-16页 |
| 第2章 光子晶体理论研究方法 | 第16-23页 |
| ·平面波展开法 | 第16-19页 |
| ·时域有限差分法 | 第19-21页 |
| ·传输矩阵法 | 第21-22页 |
| ·多重散射(Order-N)法 | 第22-23页 |
| 第3章 二维光子晶体的制备技术和方法 | 第23-28页 |
| ·精密加工法 | 第23页 |
| ·光蚀刻技术 | 第23-24页 |
| ·微影技术 | 第24-27页 |
| ·电子束微影(Electron Beam Lithography) | 第24-25页 |
| ·原子力显微术微影(AFM Lithography) | 第25页 |
| ·雷射直写微影(Direct Laser Writing Lithography) | 第25-27页 |
| ·其他方法 | 第27-28页 |
| ·飞秒激光干涉法 | 第27页 |
| ·聚焦离子束 | 第27-28页 |
| 第4章 二维圆柱六边形晶格可控带隙光子晶体的设计与应用 | 第28-38页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·电磁感应透明(EIT)周期性材料 | 第28-30页 |
| ·光子晶体能带理论 | 第30-31页 |
| ·二维可控带隙光子晶体的设计与计算 | 第31-35页 |
| ·研究方法 | 第32页 |
| ·EIT光子晶体可控带隙结构 | 第32-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-35页 |
| ·光开关原理及进展介绍 | 第35-36页 |
| ·光开关原理介绍 | 第35-36页 |
| ·普通光开关的原理有以下几类 | 第36页 |
| ·频控光开关优点分析 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第5章 二维正方晶格各向异性光子晶体完全禁带中缺陷模的计算和分析 | 第38-44页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·计算缺陷模的FDTD方法 | 第38-40页 |
| ·PML吸收边界条件 | 第40-41页 |
| ·FDTD中的激励源 | 第41页 |
| ·计算结果与讨论 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第6章 二维光子晶体滤波器的设计与滤波特性研究 | 第44-50页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·基于EIT的二维可控光子晶体滤波器的设计 | 第44-49页 |
| ·二维光子晶体滤波器的基本原理 | 第44-46页 |
| ·二维光控可调光子晶体滤波器的理论设计 | 第46-47页 |
| ·点缺陷半径与耦合波波长的关系 | 第47-48页 |
| ·点缺陷位置与耦合效率的关系 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第7章 总结与展望 | 第50-52页 |
| ·全文总结 | 第50页 |
| ·论文的创新点 | 第50-51页 |
| ·展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 附录 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
