| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| ·课题背景和研究意义 | 第10-11页 |
| ·高发射率膜层的制备方法及研究现状 | 第11-13页 |
| ·传统表面改性方法 | 第11-12页 |
| ·高发射率涂层的研究现状 | 第12-13页 |
| ·高发射率膜层的影响因素 | 第13-14页 |
| ·热辐射的影响因素 | 第13页 |
| ·膜层与基体结合强度的影响因素 | 第13-14页 |
| ·微弧氧化技术 | 第14-18页 |
| ·微弧氧化技术简介 | 第15-16页 |
| ·微弧氧化技术优势 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化技术发展概况及研究现状 | 第17-18页 |
| ·主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第19-24页 |
| ·实验材料 | 第19页 |
| ·实验装置及工艺 | 第19-21页 |
| ·微弧氧化装置 | 第19-20页 |
| ·微弧氧化电源 | 第20页 |
| ·试样的制备 | 第20-21页 |
| ·测试方法 | 第21-23页 |
| ·膜层厚度的测试方法 | 第21页 |
| ·剪切强度测试 | 第21-22页 |
| ·发射率的测试方法 | 第22-23页 |
| ·粗糙度的测试方法 | 第23页 |
| ·微弧氧化膜层组织结构分析方法 | 第23-24页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第23页 |
| ·膜层形貌分析 | 第23页 |
| ·能谱分析 | 第23-24页 |
| 第3章 微弧氧化陶瓷膜层组织结构与剪切性能 | 第24-52页 |
| ·主盐体系的选择 | 第24-25页 |
| ·纯磷酸盐体系微弧氧化膜层的组成 | 第24-25页 |
| ·磷酸盐-硅酸盐体系微弧氧化膜层的组成 | 第25页 |
| ·磷酸盐主盐体系最佳浓度的选择 | 第25-29页 |
| ·磷酸盐-添加剂电解液体系陶瓷膜层的结构与剪切性能 | 第29-48页 |
| ·磷酸盐体系添加碳化硅纳米粒子对膜层的影响 | 第29-33页 |
| ·磷酸盐体系添加硫酸亚铁对膜层的影响 | 第33-39页 |
| ·磷酸盐体系添加乙酸镍对膜层的影响 | 第39-43页 |
| ·磷酸盐体系添加乙酸钴对膜层的影响 | 第43-48页 |
| ·磷酸盐体系添加氟锆酸钾对膜层的影响 | 第48页 |
| ·磷酸盐-硅酸盐-添加剂电解液体系陶瓷膜层的形貌研究 | 第48-50页 |
| ·磷酸盐-硅酸盐体系添加乙酸铜对膜层形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·磷酸盐-硅酸盐体系添加硫酸亚铁对膜层形貌的影响 | 第49页 |
| ·磷酸盐-硅酸盐体系添加乙酸钴对膜层形貌的影响 | 第49-50页 |
| ·磷酸盐-硅酸盐体系添加乙酸镍对膜层形貌的影响 | 第50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第4章 微弧氧化陶瓷膜层辐射性能研究 | 第52-62页 |
| ·主盐体系膜层发射率分析 | 第52-54页 |
| ·纯磷酸盐体系膜层发射率分析 | 第52-53页 |
| ·纯硅酸盐体系膜层发射率分析 | 第53页 |
| ·磷酸盐-硅酸盐体系膜层发射率分析 | 第53-54页 |
| ·磷酸盐-氟锆酸钾体系膜层发射率分析 | 第54页 |
| ·碳化硅浓度对磷酸盐体系膜层发射率的影响 | 第54-55页 |
| ·硫酸亚铁浓度对磷酸盐体系膜层发射率的影响 | 第55页 |
| ·乙酸镍浓度对磷酸盐体系膜层发射率的影响 | 第55-56页 |
| ·乙酸钴浓度及处理参数对磷酸盐体系膜层发射率的影响 | 第56-58页 |
| ·乙酸钴浓度对膜层发射率的影响 | 第56页 |
| ·时间、频率对乙酸钴电解液体系膜层的影响 | 第56-58页 |
| ·磷酸盐-硅酸盐-乙酸铜体系膜层发射率分析 | 第58-59页 |
| ·磷酸盐-硅酸盐-硫酸亚铁体系膜层发射率分析 | 第59页 |
| ·磷酸盐-硅酸盐-乙酸镍体系膜层发射率分析 | 第59-60页 |
| ·磷酸盐-硅酸盐-乙酸钴体系膜层发射率分析 | 第60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
