| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 1 绪论 | 第12-18页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的简介 | 第12页 |
| ·透明导电薄膜的研究现状 | 第12-14页 |
| ·In_2O_3:Sn(ITO)薄膜 | 第12-13页 |
| ·SnO_2:F(FTO)薄膜 | 第13页 |
| ·ZnO:Al(AZO)薄膜 | 第13页 |
| ·ZnO:Ga(GZO)薄膜 | 第13-14页 |
| ·ZnO薄膜在太阳能电池中的应用 | 第14页 |
| ·开题思想及意义 | 第14-16页 |
| ·小结 | 第16-18页 |
| 2 ZnO:Al薄膜制备的理论基础 | 第18-23页 |
| ·薄膜的生长成膜过程 | 第18-21页 |
| ·溅射成膜的生长过程与生长模式 | 第18-20页 |
| ·ZnO:Al薄膜的反应成膜过程 | 第20-21页 |
| ·ZnO:Al薄膜的实验制备 | 第21-22页 |
| ·实验仪器及步骤介绍 | 第21-22页 |
| ·ZnO:Al薄膜表征 | 第22页 |
| ·小结 | 第22-23页 |
| 3 ZnO与ZnO:Al薄膜的微观结构及其导电机制 | 第23-31页 |
| ·ZnO与ZnO:Al薄膜的微观结构 | 第23-25页 |
| ·ZnO薄膜的微观机构 | 第23页 |
| ·ZnO:Al薄膜的微观结构 | 第23-25页 |
| ·ZnO与ZnO:Al薄膜的导电机制 | 第25-30页 |
| ·ZnO薄膜的点缺陷微观导电机制 | 第25-27页 |
| ·ZnO:Al薄膜的微观导电机制 | 第27-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 4 Zn/Al合金靶材制备ZnO:Al薄膜 | 第31-42页 |
| ·ZnO:Al薄膜的制备 | 第31页 |
| ·铝掺杂量对ZnO:Al薄膜晶体结构的影响 | 第31-35页 |
| ·铝掺杂含量对ZnO:Al薄膜微结构的影响 | 第31-33页 |
| ·不同铝掺杂量ZnO:Al薄膜电学性能受衬底温度的影响 | 第33-35页 |
| ·不同铝掺杂量的ZnO:Al薄膜性能分析 | 第35-41页 |
| ·铝掺杂量不同(电阻率相同)的ZnO:Al膜XRD分析 | 第36页 |
| ·铝掺杂量不同(电阻率相同)的ZnO:Al膜光学性质分析 | 第36-39页 |
| ·铝掺杂量不同(电阻率相同)的ZnO:Al膜电学性质分析 | 第39-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 5 ZnO/Al_2O_3陶瓷靶材制备ZnO:Al薄膜 | 第42-54页 |
| ·陶瓷靶材和合金靶材比较 | 第42-43页 |
| ·两种靶材的特点 | 第42页 |
| ·磁控溅射的电源方式 | 第42-43页 |
| ·衬底温度对ZnO:Al薄膜光电性能的影响 | 第43-49页 |
| ·衬底温度对ZnO:Al薄膜微结构的影响 | 第43-44页 |
| ·衬底温度对ZnO:Al薄膜电学性能的影响 | 第44-47页 |
| ·衬底温度对ZnO:Al薄膜光学性能的影响 | 第47-49页 |
| ·氧流量对ZnO:Al薄膜电学性能的影响 | 第49-50页 |
| ·合金靶材和陶瓷靶材制备ZnO:Al薄膜的比较 | 第50-52页 |
| ·小结 | 第52-54页 |
| 6 ZnO:Al薄膜在OLED器件中的应用 | 第54-60页 |
| ·1wt.%Al掺杂ZnO:Al薄膜的制备 | 第54-56页 |
| ·1wt.%Al掺杂ZnO:Al薄膜在OLED器件中的应用 | 第56-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 7 结论与展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 个人简历与在学期间发表的学术论文 | 第67页 |
