| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 一 引言 | 第13-41页 |
| 1.1 磁光效应概述 | 第13-14页 |
| 1.2 磁光效应产生的物理机理描述 | 第14-23页 |
| 1.2.1 磁光克尔效应 | 第17-20页 |
| 1.2.2 磁光法拉第效应 | 第20-23页 |
| 1.3 磁光克尔效应的调控 | 第23-39页 |
| 1.3.1 光学腔体对磁光克尔效应的调控 | 第24-25页 |
| 1.3.2 表面等离激元对磁光效应的调控 | 第25-39页 |
| 1.4 本论文的研究目的和主要内容 | 第39-41页 |
| 二 磁光克尔效应的计算方法 | 第41-49页 |
| 2.1 多层磁性薄膜的克尔信号计算方法 | 第41-43页 |
| 2.2 磁光计算的传输矩阵法[132] | 第43-46页 |
| 2.3 简化的传输矩阵 | 第46-48页 |
| 2.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 三 样品的制备和表征 | 第49-59页 |
| 3.1 多层磁性薄膜样品的制备 | 第49-52页 |
| 3.1.1 磁控溅射法镀膜 | 第49-52页 |
| 3.2 样品结构和性能的表征 | 第52-58页 |
| 3.2.1 纳米结构的表征 | 第52-53页 |
| 3.2.2 光学性能分析 | 第53页 |
| 3.2.3 纳米薄膜折射率、消光系数以及厚度的表征 | 第53-55页 |
| 3.2.4 磁光克尔效应的测量 | 第55-58页 |
| 3.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 四 光学腔体对磁性薄膜磁光特性的增强 | 第59-63页 |
| 4.1 多层磁性异质纳米结构薄膜的制备 | 第59-60页 |
| 4.2 多层磁性异质纳米结构薄膜的磁光和光学特性 | 第60-62页 |
| 4.3 本章小结 | 第62-63页 |
| 五 多孔阳极氧化铝薄膜的光学性质及在纳米材料制备中的应用 | 第63-90页 |
| 5.1 绪论 | 第63-66页 |
| 5.2 带铝基底的多孔阳极氧化铝薄膜结构模型 | 第66-68页 |
| 5.3 光与带铝基底的多孔阳极氧化铝模板相互作用模型 | 第68-70页 |
| 5.4 带铝基底的多孔阳极氧化铝模板的生长模型 | 第70-72页 |
| 5.5 多孔阳极氧化铝薄膜辅助制备纳米结构的方法概述 | 第72-78页 |
| 5.5.1 多孔纳米薄膜阵列结构的制备 | 第72页 |
| 5.5.2 纳米柱的制备 | 第72-73页 |
| 5.5.3 纳米点阵结构的制备 | 第73-78页 |
| 5.6 阳极氧化铝薄膜在光学干涉中的应用 | 第78-82页 |
| 5.7 模板辅助银纳米孔通孔薄膜的制备及其光致发光 | 第82-89页 |
| 5.7.1 阳极氧化铝薄膜的制备 | 第82-83页 |
| 5.7.2 拓印法制备银纳米孔通孔结构 | 第83-85页 |
| 5.7.3 通孔银纳米薄膜的双光子荧光特性 | 第85-89页 |
| 5.8 本章小节 | 第89-90页 |
| 六 纳米多孔有序结构对磁性薄膜磁光效应的调控 | 第90-111页 |
| 6.1 绪论 | 第90-92页 |
| 6.2 AAO孔径大小对单层CoFeB薄膜磁光效应的增强 | 第92-98页 |
| 6.2.1 CoFeB/AAO/Al模型的建立及理论分析 | 第92-96页 |
| 6.2.2 CoFeB/AAO/Al纳米阵列的制备及结构表征 | 第96-97页 |
| 6.2.3 AAO孔径大小对CoFeB/AAO/Al纳米阵列纵向克尔效应的影响 | 第97-98页 |
| 6.3 AAO孔深对CoFeB/AAO/Al纳米阵列磁光效应敏感度增强 | 第98-100页 |
| 6.4 CoFeB薄膜厚度对CoFeB/AAO/Al磁光信号翻转的调控 | 第100-104页 |
| 6.4.1 磁光克尔翻转 | 第100-102页 |
| 6.4.2 CoFeB薄膜厚度对CoFeB/AAO/Al磁光信号的翻转调控 | 第102-104页 |
| 6.5 W/CoFeB/W/AAO/Al多孔纳米孔结构的磁光克尔效应 | 第104-107页 |
| 6.6 Py/AAO/Al纳米阵列横向克尔效应及调控 | 第107-110页 |
| 6.7 本章小结 | 第110-111页 |
| 七 总结与展望 | 第111-113页 |
| 7.1 工作总结 | 第111页 |
| 7.2 工作展望 | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-129页 |
| 作者简历及在学研究成果 | 第129-132页 |
| 学位论文数据集 | 第132-133页 |
