| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-31页 |
| ·晶体材料的化学键结构 | 第10-16页 |
| ·化学键理论的建立和发展 | 第10-11页 |
| ·晶体结构和化学键模型 | 第11-14页 |
| ·复杂晶体化学键理论 | 第14-16页 |
| ·结晶过程的理论描述 | 第16-25页 |
| ·结晶生长形态 | 第17-20页 |
| ·生长界面模型 | 第20-23页 |
| ·结晶过程中的单元结构 | 第23-25页 |
| ·KH_2PO_4类晶体的研究进展 | 第25-30页 |
| ·晶体结构和生长单元 | 第25-27页 |
| ·混晶研究概况 | 第27-29页 |
| ·KH_2PO_4的单晶生长 | 第29-30页 |
| ·选题的意义和工作安排 | 第30-31页 |
| 2 结晶生长形态的定量计算 | 第31-57页 |
| ·结晶生长和晶格能的关系 | 第31-34页 |
| ·晶格能的定量计算 | 第31-32页 |
| ·晶格能和键电子密度的关系 | 第32-34页 |
| ·结晶生长的理论模型 | 第34-37页 |
| ·结晶生长的化学键合模型 | 第34-36页 |
| ·晶面的相对生长速率 | 第36-37页 |
| ·KH_2PO_4和NH_4H_2PO_4的理论生长形态 | 第37-48页 |
| ·化学键结构分析 | 第37-39页 |
| ·生长单元分析 | 第39-45页 |
| ·KH_2PO_4和NH_4H_2PO_4晶体生长的热力学稳定形态 | 第45-48页 |
| ·结晶生长的影响因素研究 | 第48-56页 |
| ·pH值和生长单元结构 | 第49-53页 |
| ·晶面结构和楔化生长 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 3 K_(1-x)(NH_4)_xH_2PO_4混晶的结晶生长行为研究 | 第57-81页 |
| ·KH_2PO_4晶体的结构和性能关系 | 第57-58页 |
| ·结构应力和晶体生长 | 第58-65页 |
| ·混晶的结构特征 | 第58-60页 |
| ·应力的计算模型 | 第60-63页 |
| ·混晶的结晶形态 | 第63-65页 |
| ·混晶的结构和性质关系 | 第65-77页 |
| ·结晶学结构随x的变化 | 第65-71页 |
| ·混晶红外光谱随x的变化 | 第71-74页 |
| ·混晶的低温相变研究 | 第74-77页 |
| ·混晶生长方法的拓展研究 | 第77-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 4 大尺寸KH_2PO_4单晶的快速生长 | 第81-96页 |
| ·单晶生长的工艺研究 | 第81-84页 |
| ·晶体生长的方法和设备 | 第81-82页 |
| ·晶体生长的控制模式 | 第82-84页 |
| ·快速生长设备的工艺设计 | 第84-91页 |
| ·晶体生长系统的硬件部分 | 第84-86页 |
| ·晶体生长系统的软件部分 | 第86-88页 |
| ·晶体生长系统的工艺参数 | 第88-91页 |
| ·生长工艺中的温度控制 | 第91-95页 |
| ·线性降温生长 | 第91-92页 |
| ·多段程线性降温 | 第92-94页 |
| ·程序控制曲线降温 | 第94-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 结论 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-109页 |
| 创新点摘要 | 第109-110页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第110-112页 |
| 致谢 | 第112-113页 |
| 作者简介 | 第113-115页 |
