薄涂覆目标电磁散射特性分析
摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
符号对照表 | 第11-12页 |
缩略语对照表 | 第12-15页 |
第一章 绪论 | 第15-21页 |
1.1 研究背景及意义 | 第15-16页 |
1.2 国内外研究现状 | 第16-18页 |
1.3 本文的主要工作及内容安排 | 第18-21页 |
第二章 矩量法基本理论 | 第21-37页 |
2.1 矩量法的数学原理 | 第21-23页 |
2.2 RWG基函数 | 第23-25页 |
2.3 理想导体表面积分方程 | 第25-29页 |
2.3.1 电场积分方程与磁场积分方程 | 第25-29页 |
2.3.2 混合场积分方程 | 第29页 |
2.4 电磁场积分方程的矩量法解 | 第29-34页 |
2.4.1 电场积分方程的矩量法解 | 第29-32页 |
2.4.2 磁场积分方程的矩量法解 | 第32-34页 |
2.5 散射场的计算 | 第34-37页 |
2.5.1 近场散射场计算 | 第34-35页 |
2.5.2 远场散射场计算(场点在无穷远处) | 第35-37页 |
第三章 涂层基本理论 | 第37-55页 |
3.1 阻抗边界条件 | 第37-38页 |
3.2 薄介质片等效模型 | 第38-42页 |
3.2.1 切向电流等效模型 | 第38-39页 |
3.2.2 法向电流近似模型 | 第39-40页 |
3.2.3 全波等效模型 | 第40-42页 |
3.3 薄涂覆等效模型 | 第42-48页 |
3.3.2 电性薄涂覆等效模型 | 第43-45页 |
3.3.3 广义薄涂覆等效模型 | 第45-48页 |
3.4 阻抗矩阵元素积分计算 | 第48-49页 |
3.5 算例分析 | 第49-55页 |
3.5.1 涂覆球目标的电磁散射 | 第49-52页 |
3.5.2 涂覆立方体目标的电磁散射 | 第52-55页 |
第四章 矩量法并行理论基础 | 第55-75页 |
4.1 并行矩阵填充 | 第56-60页 |
4.1.1 串行矩阵填充 | 第56-58页 |
4.1.2 并行矩阵填充 | 第58-60页 |
4.2 并行矩阵求解 | 第60-66页 |
4.2.1 并行panel列分解 | 第60-61页 |
4.2.2 并行panel行更新 | 第61-63页 |
4.2.3 并行trailing更新 | 第63-66页 |
4.3 涂覆目标算例分析 | 第66-75页 |
4.3.1 进气道涂覆算例分析 | 第66-70页 |
4.3.2 机翼涂覆算例分析 | 第70-75页 |
第五章 总结与展望 | 第75-77页 |
5.1 本文总结 | 第75页 |
5.2 后续工作展望 | 第75-77页 |
参考文献 | 第77-81页 |
致谢 | 第81-83页 |
作者简介 | 第83-84页 |