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薄涂覆目标电磁散射特性分析

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
符号对照表第11-12页
缩略语对照表第12-15页
第一章 绪论第15-21页
    1.1 研究背景及意义第15-16页
    1.2 国内外研究现状第16-18页
    1.3 本文的主要工作及内容安排第18-21页
第二章 矩量法基本理论第21-37页
    2.1 矩量法的数学原理第21-23页
    2.2 RWG基函数第23-25页
    2.3 理想导体表面积分方程第25-29页
        2.3.1 电场积分方程与磁场积分方程第25-29页
        2.3.2 混合场积分方程第29页
    2.4 电磁场积分方程的矩量法解第29-34页
        2.4.1 电场积分方程的矩量法解第29-32页
        2.4.2 磁场积分方程的矩量法解第32-34页
    2.5 散射场的计算第34-37页
        2.5.1 近场散射场计算第34-35页
        2.5.2 远场散射场计算(场点在无穷远处)第35-37页
第三章 涂层基本理论第37-55页
    3.1 阻抗边界条件第37-38页
    3.2 薄介质片等效模型第38-42页
        3.2.1 切向电流等效模型第38-39页
        3.2.2 法向电流近似模型第39-40页
        3.2.3 全波等效模型第40-42页
    3.3 薄涂覆等效模型第42-48页
        3.3.2 电性薄涂覆等效模型第43-45页
        3.3.3 广义薄涂覆等效模型第45-48页
    3.4 阻抗矩阵元素积分计算第48-49页
    3.5 算例分析第49-55页
        3.5.1 涂覆球目标的电磁散射第49-52页
        3.5.2 涂覆立方体目标的电磁散射第52-55页
第四章 矩量法并行理论基础第55-75页
    4.1 并行矩阵填充第56-60页
        4.1.1 串行矩阵填充第56-58页
        4.1.2 并行矩阵填充第58-60页
    4.2 并行矩阵求解第60-66页
        4.2.1 并行panel列分解第60-61页
        4.2.2 并行panel行更新第61-63页
        4.2.3 并行trailing更新第63-66页
    4.3 涂覆目标算例分析第66-75页
        4.3.1 进气道涂覆算例分析第66-70页
        4.3.2 机翼涂覆算例分析第70-75页
第五章 总结与展望第75-77页
    5.1 本文总结第75页
    5.2 后续工作展望第75-77页
参考文献第77-81页
致谢第81-83页
作者简介第83-84页

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