| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 光催化技术简介 | 第10-13页 |
| 1.2.1 光催化降解技术原理 | 第10-11页 |
| 1.2.2 影响光催化活性的因素 | 第11-13页 |
| 1.3 g-C_3N_4和WO_3光催化材料的研究进展 | 第13-19页 |
| 1.3.1 g-C_3N_4 光催化材料介绍及研究进展 | 第13-16页 |
| 1.3.2 WO_3 光催化材料介绍及研究进展 | 第16-19页 |
| 1.4 光催化剂助剂简介 | 第19-21页 |
| 1.4.1 还原型助剂 | 第19-21页 |
| 1.4.2 氧化型助剂 | 第21页 |
| 1.5 课题研究背景及意义 | 第21-22页 |
| 1.6 论文研究的内容 | 第22-23页 |
| 第2章 WO_3NS/g-C_3N_4NS光催化降解罗丹明B | 第23-41页 |
| 2.1 引言 | 第23-24页 |
| 2.2 实验试剂及仪器 | 第24-25页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第24页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第24-25页 |
| 2.3 实验部分 | 第25-27页 |
| 2.3.1 复合光催化剂的制备 | 第25-26页 |
| 2.3.2 催化剂表征 | 第26页 |
| 2.3.3 光催化性能测试 | 第26-27页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第27-38页 |
| 2.4.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第27-28页 |
| 2.4.2 扫描电镜(SEM)分析 | 第28-29页 |
| 2.4.3 傅里叶变换红外光谱(FT-IR)分析 | 第29页 |
| 2.4.4 紫外-可见光漫反射光谱(UV-Vis DRS)分析 | 第29-30页 |
| 2.4.5 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第30-32页 |
| 2.4.6 光催化性能测试 | 第32-34页 |
| 2.4.7 光致发光光谱(PL)分析 | 第34-35页 |
| 2.4.8 循环稳定性测试 | 第35-36页 |
| 2.4.9 光催化机理分析 | 第36-38页 |
| 2.5 小结 | 第38-41页 |
| 第3章 助剂修饰提高WO_3/g-C_3N_4 NS的光催化性能 | 第41-51页 |
| 3.1 引言 | 第41-42页 |
| 3.2 实验试剂及仪器 | 第42-43页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第42页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第42-43页 |
| 3.3 实验部分 | 第43-44页 |
| 3.3.1 复合光催化剂的制备 | 第43页 |
| 3.3.2 催化剂表征 | 第43-44页 |
| 3.3.3 光催化性能测试 | 第44页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第44-50页 |
| 3.4.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第44-45页 |
| 3.4.2 透射电镜(TEM)分析 | 第45-46页 |
| 3.4.3 傅里叶变换红外光谱(FT-IR)分析 | 第46-47页 |
| 3.4.4 紫外-可见光漫反射光谱(UV-Vis DRS)分析 | 第47-48页 |
| 3.4.5 光催化性能测试 | 第48-50页 |
| 3.5 小结 | 第50-51页 |
| 第4章 双助剂修饰提高WO_3/g-C_3N_4 NS的光催化性能 | 第51-63页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 实验试剂及仪器 | 第51-52页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第51页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第51-52页 |
| 4.3 实验部分 | 第52-54页 |
| 4.3.1 复合光催化剂的制备 | 第52-53页 |
| 4.3.2 催化剂表征 | 第53页 |
| 4.3.3 光催化性能测试 | 第53-54页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第54-61页 |
| 4.4.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第54页 |
| 4.4.2 透射电镜(TEM)分析 | 第54-55页 |
| 4.4.3 傅里叶变换红外光谱(FT-IR)分析 | 第55-56页 |
| 4.4.4 紫外-可见光漫反射光谱(UV-Vis DRS)分析 | 第56-57页 |
| 4.4.5 光催化性能测试 | 第57-59页 |
| 4.4.6 循环稳定性测试 | 第59-60页 |
| 4.4.7 双助剂修饰WO_3/g-C_3N_4 NS的机理 | 第60-61页 |
| 4.5 小结 | 第61-63页 |
| 第5章 结论与展望 | 第63-65页 |
| 5.1 结论 | 第63-64页 |
| 5.2 展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-79页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
