含膦含铜电镀废水的处理研究
摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-29页 |
·电镀废水的基本组成以及危害 | 第11-14页 |
·含铜废水的危害 | 第12页 |
·含膦废水的危害 | 第12-14页 |
·电解法回收铜的基本理论 | 第14-15页 |
·电解法回收铜的国内外研究进展 | 第14页 |
·电解法回收铜的影响因素 | 第14-15页 |
·电流密度的影响 | 第14页 |
·温度的影响 | 第14-15页 |
·含铜废水的其它主要处理方法 | 第15-18页 |
·化学沉淀法 | 第15页 |
·离子交换法 | 第15-16页 |
·重金属螯合剂 | 第16-17页 |
·液膜分离技术 | 第17-18页 |
·生物吸附法 | 第18页 |
·超声波-铁碳微电解法除膦的基本理论 | 第18-22页 |
·铁碳微电解法的研究进展 | 第18-19页 |
·超声波-微电解法原理 | 第19-22页 |
·超声氧化基本原理 | 第19-20页 |
·铁屑的作用 | 第20-21页 |
·电化学富集作用 | 第21页 |
·物质吸附作用 | 第21-22页 |
·含膦废水的其它主要处理方法 | 第22-23页 |
·Fenton 试剂法 | 第22-23页 |
·光催化氧化技术 | 第23页 |
·生化法 | 第23页 |
·本论文提出的依据和研究内容 | 第23-24页 |
参考文献 | 第24-29页 |
第二章 实验部分 | 第29-36页 |
·主要实验药品和仪器 | 第29-31页 |
·主要实验药品 | 第29-30页 |
·主要实验仪器 | 第30-31页 |
·实验内容 | 第31-35页 |
·溶液的配置和标准曲线的绘制 | 第31-33页 |
·HEDP 镀液的配置 | 第31页 |
·铜标准曲线的绘制 | 第31-32页 |
·磷标准曲线的绘制 | 第32-33页 |
·铜的电解回收 | 第33页 |
·Fe-C 微电解粉的配置以及有机膦的降解和去除 | 第33页 |
·沉淀物组分的表征以及废水中铜、磷含量的测定 | 第33-35页 |
·X 射线粉末衍射(XRD)表征 | 第33-34页 |
·扫描电镜能谱(EDS)表征 | 第34页 |
·分光光度法铜、磷含量分析 | 第34页 |
·电化学测试技术-线性扫描 | 第34-35页 |
参考文献 | 第35-36页 |
第三章 电镀废水的磷和铜分析方法 | 第36-50页 |
·前言 | 第36页 |
·实验部分 | 第36-37页 |
·结果与讨论 | 第37-48页 |
·HEDP 镀铜体系的研究 | 第37-40页 |
·溶液中Cu~(2+)和P 元素含量分析探讨 | 第40-48页 |
·消解对Cu~(2+)和P 元素含量分析的影响 | 第40-42页 |
·Cu~(2+)含量分析探讨 | 第42-45页 |
·P 元素含量分析探讨 | 第45-48页 |
·验证例 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49页 |
参考文献 | 第49-50页 |
第四章 含膦含铜电镀废水的处理及其影响因素 | 第50-63页 |
·前言 | 第50-51页 |
·沉淀法去除铜和膦的探讨 | 第51-53页 |
·沉淀法机理探讨 | 第51-52页 |
·沉淀法实验效果和分析 | 第52-53页 |
·电解法回收铜的探讨 | 第53-55页 |
·电流密度对电解效率的影响 | 第53-54页 |
·电解回收中的不溶性阳极选择 | 第54-55页 |
·微电解法处理有机膦的探讨 | 第55-60页 |
·微电解法机理探讨 | 第55-57页 |
·超声波对微电解反应的影响 | 第57-58页 |
·Fe-C 比对微电解效率的影响 | 第58-59页 |
·pH 值对微电解效率的影响 | 第59-60页 |
·其他膦系废水处理的扩展应用 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61页 |
参考文献 | 第61-63页 |
第五章 实际电镀过程中的水污染和处理方案 | 第63-70页 |
·前言 | 第63页 |
·实验方法与装置 | 第63-65页 |
·运动线材的液体携带量控制 | 第63-64页 |
·在线气流回收——减少液体携带量的方法 | 第64-65页 |
·结果与讨论 | 第65-67页 |
·线材溶液携带量的影响因素 | 第65-66页 |
·气流清洗效果分析 | 第66-67页 |
·实际电镀生产中的废水处理工艺流程 | 第67-68页 |
·本章小结 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-70页 |
第六章 结论和展望 | 第70-72页 |
·结论 | 第70页 |
·展望 | 第70-72页 |
附录Ⅰ 硕士研究生学习期间完成的论文 | 第72-73页 |
附录Ⅱ致谢 | 第73页 |