| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 石墨烯的结构与摩擦性能 | 第11-15页 |
| 1.1.1 石墨烯结构 | 第11-12页 |
| 1.1.2 石墨烯的摩擦性能及应用 | 第12-13页 |
| 1.1.3 石墨烯的纳米摩擦学性能 | 第13-15页 |
| 1.2 氧化石墨烯的结构与摩擦性能 | 第15-22页 |
| 1.2.1 氧化石墨烯的结构 | 第15-16页 |
| 1.2.2 氧化石墨烯的摩擦性能 | 第16-17页 |
| 1.2.3 氧化石墨烯的还原 | 第17-22页 |
| 1.3 本论文的研究目的和内容 | 第22-23页 |
| 1.3.1 研究目的 | 第22页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第22-23页 |
| 1.4 本章小结 | 第23-25页 |
| 第2章 氧化石墨烯的制备与表征 | 第25-35页 |
| 2.1 氧化石墨烯的制备 | 第25-27页 |
| 2.2 导电AFM表征 | 第27-31页 |
| 2.3 拉曼光谱表征 | 第31-33页 |
| 2.4 X射线光电子能谱表征 | 第33-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 基于导电AFM的氧化石墨烯还原 | 第35-45页 |
| 3.1 基于导电AFM还原氧化石墨烯的机理 | 第35-36页 |
| 3.2 SiO_2和Au基底上氧化石墨烯的还原 | 第36-39页 |
| 3.2.1 不同基底上氧化石墨烯的还原结果 | 第36-38页 |
| 3.2.2 基底对氧化石墨烯还原的影响及分析 | 第38-39页 |
| 3.3 不同电压下氧化石墨烯的还原 | 第39-41页 |
| 3.3.1 不同电压下氧化石墨烯的还原结果 | 第39-40页 |
| 3.3.2 电压对氧化石墨烯还原的影响及分析 | 第40-41页 |
| 3.4 不同扫描速度下氧化石墨烯的还原 | 第41-42页 |
| 3.4.1 不同扫描速度下氧化石墨烯的还原结果 | 第41页 |
| 3.4.2 扫描速度对氧化石墨烯还原的影响及分析 | 第41-42页 |
| 3.5 不同扫描次数下氧化石墨烯的还原 | 第42-43页 |
| 3.5.1 不同扫描次数下氧化石墨烯的还原结果 | 第42-43页 |
| 3.5.2 扫描次数对氧化石墨烯还原的影响及分析 | 第43页 |
| 3.6 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 氧化石墨烯电场下摩擦特性的研究 | 第45-55页 |
| 4.1 氧化石墨烯电场下的粘附力 | 第45-48页 |
| 4.1.1 氧化石墨烯粘附力随电压的变化及分析 | 第45-46页 |
| 4.1.2 还原前后氧化石墨烯粘附力的变化及分析 | 第46-48页 |
| 4.2 氧化石墨烯电场下的摩擦力 | 第48-50页 |
| 4.2.1 电压对氧化石墨烯还原过程中摩擦力的影响及分析 | 第48-49页 |
| 4.2.2 速度对氧化石墨烯还原过程中摩擦力的影响及分析 | 第49-50页 |
| 4.3 氧化石墨烯电场下的磨损 | 第50-54页 |
| 4.3.1 电压对氧化石墨烯还原过程中磨损的影响及分析 | 第50-53页 |
| 4.3.2 速度对氧化石墨烯还原过程中磨损的影响及分析 | 第53-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 总结与展望 | 第55-57页 |
| 5.1 主要工作与总结 | 第55-56页 |
| 5.2 展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
