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EBCMOS微光成像器件性能测试平台的设计及研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第9-17页
    1.1 研究背景及意义第9页
    1.2 国内外研究现状及发展动态分析第9-15页
    1.3 主要研究内容第15-16页
    1.4 本章小结第16-17页
第二章 EBCMOS成像器件电子倍增层的增益信号研究第17-27页
    2.1 EBCMOS微光成像技术理论研究第17-18页
    2.2 入射光电子在EBCMOS表面钝化层中电子透过特性研究第18-21页
    2.3 电子倍增层中倍增区内倍增电子分布模拟研究第21-23页
    2.4 基底指数掺杂时电荷收集效率的模拟研究第23-24页
    2.5 背照式CMOS芯片钝化层减薄去除工艺研究第24-26页
    2.6 本章小结第26-27页
第三章 EBCMOS器件性能提取电路的研究第27-46页
    3.1 图像采集的光路设计第27-29页
    3.2 图像采集系统的基本结构第29-30页
    3.3 器件性能提取电路的设计第30-45页
    3.4 本章小结第45-46页
第四章 EBCMOS器件性能测试平台的研究第46-53页
    4.1 电子倍增模型及性能测试平台的构建第46-47页
    4.2 电子光学调制传递函数第47-49页
    4.3 电子增益性能原理性测试第49-50页
    4.4 性能提取电路逻辑时序的校正与优化第50-52页
    4.5 本章小结第52-53页
第五章 总结与展望第53-55页
    5.1 全文总结第53页
    5.2 本文创新点第53-54页
    5.3 工作展望第54-55页
致谢第55-56页
参考文献第56-60页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第60页
攻读硕士学位期间参与的科研项目第60页
攻读硕士学位期间荣获吉林省科学技术奖第60-61页
附录第61-66页
    A.性能提取电路核心时序逻辑第61-64页
    B.电路原理图第64-65页
    C.PCB设计版图第65-66页
    D.吉林省科学技术奖第66页

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