硅纳米线及晶体硅选择性扩散的研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-23页 |
·纳米材料的基本特性 | 第9-11页 |
·硅纳米线的性能、制备方法以及应用前景 | 第11-22页 |
·硅纳米线的性能研究 | 第11-14页 |
·一维纳米硅材料的制备方法 | 第14-20页 |
·硅纳米线的广泛应用及前景展望 | 第20-22页 |
本章小结 | 第22页 |
·本论文的主要研究内容 | 第22-23页 |
2 一维硅纳米线的表征方法基本原理简介 | 第23-27页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第23-24页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第24页 |
·X射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
·硅纳米线的拉曼光谱 | 第25-26页 |
·光致发光(PL)光谱 | 第26页 |
本章小结 | 第26-27页 |
3 化学腐蚀法制备大面积硅纳米线阵列 | 第27-38页 |
·硅纳米线阵列的化学腐蚀法制备工艺 | 第27-28页 |
·硅片的预处理 | 第27-28页 |
·SiNWs的制备工艺 | 第28页 |
·样品表征 | 第28页 |
·结果分析和讨论 | 第28-37页 |
·SiNWs的生长机理 | 第28-30页 |
·大面积硅纳米线阵列的形貌 | 第30-36页 |
·大面积硅纳米线阵列的漫反射研究 | 第36页 |
·大面积硅纳米线阵列的拉曼光谱 | 第36-37页 |
本章小结 | 第37-38页 |
4.硅纳米线太阳能电池的研究 | 第38-43页 |
·太阳能电池的研究意义 | 第38页 |
·硅纳米线太阳电池 | 第38-42页 |
·硅纳米线太阳电池的研究进展 | 第39-40页 |
·化学腐蚀法制备硅纳米线光电化学太阳能电池 | 第40-42页 |
本章小结 | 第42-43页 |
5.选择性发射极太阳电池 | 第43-50页 |
·Si衬底的准备 | 第44页 |
·SiO_2掩膜的制备 | 第44-45页 |
·光刻扩散窗口 | 第45-47页 |
·磷浆扩散制备p-n结 | 第47-49页 |
本章小结 | 第49-50页 |
结论 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-55页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第55-56页 |
致谢 | 第56-58页 |