摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-42页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 TiO_2的基本性质 | 第13-16页 |
1.2.1 晶体结构 | 第13-15页 |
1.2.2 能带结构 | 第15-16页 |
1.3 TiO_2涂层的应用 | 第16-26页 |
1.3.1 理论基础 | 第16-21页 |
1.3.2 应用领域 | 第21-26页 |
1.4 TiO_2涂层的制备方法 | 第26-37页 |
1.4.1 溶胶-凝胶法 | 第26-28页 |
1.4.2 物理气相沉积法 | 第28-29页 |
1.4.3 化学气相沉积法 | 第29-30页 |
1.4.4 模板法 | 第30-31页 |
1.4.5 阳极氧化法 | 第31-37页 |
1.5 透明TiO_2涂层的研究现状及选题意义 | 第37-38页 |
1.6 阳极氧化法制备透明TiO_2纳米管涂层研究现状 | 第38-39页 |
1.7 课题研究目的及研究内容 | 第39-42页 |
1.7.1 研究目的 | 第39页 |
1.7.2 研究内容及技术路线 | 第39-42页 |
第二章 TiO_2纳米管的制备及性能表征 | 第42-56页 |
2.1 实验材料及设备 | 第42-43页 |
2.2 试样的制备 | 第43-45页 |
2.2.1 Ti膜的制备 | 第43-44页 |
2.2.2 TiO_2纳米管涂层的制备 | 第44-45页 |
2.3 有机物修饰制备超疏水TiO_2纳米管涂层的工艺探索 | 第45-46页 |
2.4 测试技术与研究方法 | 第46-54页 |
2.4.1 扫描电镜 | 第47-48页 |
2.4.2 X射线衍射仪 | 第48-49页 |
2.4.3 表面轮廓仪 | 第49-50页 |
2.4.4 紫外分光光度计 | 第50-51页 |
2.4.5 视频接触角测试仪 | 第51-52页 |
2.4.6 光催化性能测试 | 第52-53页 |
2.4.7 划痕测试仪 | 第53-54页 |
本章小结 | 第54-56页 |
第三章 TiO_2纳米管的结构特征研究 | 第56-74页 |
3.1 Ti膜的结构特征 | 第56-59页 |
3.1.1 显微形貌 | 第56-57页 |
3.1.2 晶体结构 | 第57-58页 |
3.1.3 电阻率 | 第58-59页 |
3.2 阳极氧化工艺对TiO_2涂层宏观形貌及厚度的影响 | 第59-63页 |
3.2.1 电压对涂层宏观形貌及均匀性的影响 | 第59-60页 |
3.2.2 电压对TiO_2涂层厚度及Ti膜阳极氧化时间的影响 | 第60-62页 |
3.2.3 Ti膜及电解液对TiO_2涂层厚度的影响 | 第62-63页 |
3.3 TiO_2纳米管的结构特征 | 第63-71页 |
3.3.1 显微形貌 | 第63-67页 |
3.3.2 晶体结构 | 第67-69页 |
3.3.3 表面粗糙度 | 第69-71页 |
本章小结 | 第71-74页 |
第四章 TiO_2纳米管的性能研究 | 第74-96页 |
4.1 光学性能 | 第74-84页 |
4.1.1 透光性 | 第74-81页 |
4.1.2 禁带宽度 | 第81-83页 |
4.1.3 折射率 | 第83-84页 |
4.2 表面亲疏水性 | 第84-88页 |
4.2.1 电压对TiO_2涂层表面亲疏水性的影响 | 第84-86页 |
4.2.2 Ti膜及电解液对TiO_2涂层表面亲疏水性的影响 | 第86-87页 |
4.2.3 有机物修饰TiO_2纳米管涂层表面疏水性 | 第87-88页 |
4.3 光催化性能 | 第88-91页 |
4.3.1 光降解速率常数 | 第88-90页 |
4.3.2 光催化性能的稳定性 | 第90-91页 |
4.4 涂层与基底结合力 | 第91-94页 |
本章小结 | 第94-96页 |
第五章 结论及展望 | 第96-98页 |
5.1 结论 | 第96-97页 |
5.2 建议及展望 | 第97-98页 |
致谢 | 第98-100页 |
参考文献 | 第100-108页 |
附录A 攻读学位期间的主要成果 | 第108页 |