致谢 | 第7-8页 |
摘要 | 第8-9页 |
ABSTRACT | 第9页 |
第一章 绪论 | 第16-22页 |
1.1 论文选题背景及意义 | 第16-17页 |
1.2 国内外研究现状 | 第17-19页 |
1.3 论文研究内容 | 第19-20页 |
1.4 论文章节安排 | 第20-21页 |
1.5 本章小结 | 第21-22页 |
第二章 粗糙表面的光散射理论 | 第22-34页 |
2.1 粗糙面的描述 | 第22-24页 |
2.1.1 粗糙面的重要统计参量 | 第22-24页 |
2.1.2 光在表面的反射形式 | 第24页 |
2.2 双向反射分布函数基本理论 | 第24-28页 |
2.2.1 电磁辐射的度量 | 第25-26页 |
2.2.2 双向反射分布函数的定义 | 第26-27页 |
2.2.3 双向反射分布函数的性质 | 第27-28页 |
2.3 表面反射模型 | 第28-33页 |
2.3.1 Phong模型和Lambert模型 | 第28-29页 |
2.3.2 基于微面元的BRDF模型 | 第29-31页 |
2.3.3 基于Monte Carlo的BRDF模型 | 第31页 |
2.3.4 基于微扰法的BRDF模型 | 第31-33页 |
2.4 本章小结 | 第33-34页 |
第三章 涂层目标光散射偏振建模 | 第34-57页 |
3.1 光的偏振特性 | 第34-37页 |
3.1.1 光波的偏振态 | 第34-35页 |
3.1.2 偏振光的描述方式 | 第35-37页 |
3.2 粗糙面光散射偏振双向反射分布函数理论 | 第37-41页 |
3.2.1 偏振双向反射分布函数坐标定义 | 第37-38页 |
3.2.2 偏振双向反射分布函数矩阵描述 | 第38-41页 |
3.3 多层涂层目标偏振建模 | 第41-48页 |
3.3.1 多层涂层目标光散射的物理结构 | 第41-43页 |
3.3.2 零阶场和一阶场的求解 | 第43-47页 |
3.3.3 界面相关模型 | 第47-48页 |
3.4 含缺陷粒子的涂层目标偏振建模 | 第48-55页 |
3.4.1 瑞利近似的缺陷粒子 | 第49-50页 |
3.4.2 涂层系统的反射和透射系数 | 第50-52页 |
3.4.3 缺陷粒子位于基底下方的偏振模型 | 第52-54页 |
3.4.4 缺陷粒子嵌入涂层的偏振模型 | 第54-55页 |
3.5 本章小结 | 第55-57页 |
第四章 涂层目标光散射偏振特性仿真分析 | 第57-72页 |
4.1 涂层目标偏振模型的验证 | 第57-58页 |
4.1.1 多层涂层目标偏振模型正确性验证 | 第57-58页 |
4.1.2 含缺陷粒子的涂层目标偏振模型正确性验证 | 第58页 |
4.2 多层涂层目标偏振特性仿真分析 | 第58-66页 |
4.2.1 单层减反射涂层偏振特性仿真分析 | 第58-61页 |
4.2.2 多层高反射涂层偏振特性仿真分析 | 第61-66页 |
4.3 含缺陷粒子的涂层目标偏振特性仿真分析 | 第66-70页 |
4.3.1 不同散射机理的区分 | 第66-68页 |
4.3.2 缺陷粒子位置对偏振度影响 | 第68-69页 |
4.3.3 入射光波长对偏振度影响 | 第69-70页 |
4.4 本章小结 | 第70-72页 |
第五章 总结与展望 | 第72-74页 |
5.1 总结 | 第72-73页 |
5.2 展望 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-80页 |
攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第80页 |