电参数对微弧氧化能耗及膜层性能的影响研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 铝及其合金表面处理技术 | 第11-14页 |
| 1.2.1 溶胶-凝胶法 | 第11-12页 |
| 1.2.2 电镀 | 第12页 |
| 1.2.3 化学镀 | 第12-13页 |
| 1.2.4 化学转化膜 | 第13页 |
| 1.2.5 阳极氧化 | 第13-14页 |
| 1.3 微弧氧化技术 | 第14-18页 |
| 1.3.1 背景概况 | 第14-15页 |
| 1.3.2 工艺过程 | 第15-17页 |
| 1.3.3 技术特点 | 第17-18页 |
| 1.3.4 膜层性能 | 第18页 |
| 1.4 能耗问题研究 | 第18-22页 |
| 1.4.1 低能耗研究进展 | 第18-21页 |
| 1.4.2 影响能耗的因素 | 第21-22页 |
| 1.5 本文研究目的及主要研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验设备与研究方法 | 第23-31页 |
| 2.1 微弧氧化实验设备 | 第23-25页 |
| 2.1.1 电源设备 | 第23-24页 |
| 2.1.2 数据采集系统（DAS） | 第24页 |
| 2.1.3 温度控制系统（TCS） | 第24-25页 |
| 2.2 实验材料 | 第25-26页 |
| 2.3 实验仪器及生产厂家 | 第26页 |
| 2.4 微弧氧化陶瓷膜的制备 | 第26-27页 |
| 2.4.1 试样的制备 | 第26页 |
| 2.4.2 试样的前处理 | 第26-27页 |
| 2.4.3 配制电解液 | 第27页 |
| 2.4.4 微弧氧化过程 | 第27页 |
| 2.4.5 试样的后处理 | 第27页 |
| 2.5 微弧氧化陶瓷膜的表征 | 第27-30页 |
| 2.5.1 微弧氧化膜层厚度测试 | 第27-28页 |
| 2.5.2 微弧氧化膜层粗糙度测试 | 第28页 |
| 2.5.3 微弧氧化膜层微观形貌及化学成分分析 | 第28页 |
| 2.5.4 微弧氧化膜层相结构分析 | 第28页 |
| 2.5.5 微弧氧化膜层耐蚀性能分析 | 第28-30页 |
| 2.6 实验技术路线 | 第30-31页 |
| 第三章 放电波形设计与优化 | 第31-52页 |
| 3.1 前言 | 第31页 |
| 3.2 波形渐变对能耗及膜层性能的影响 | 第31-37页 |
| 3.3 负向电压对能耗及膜层性能的影响 | 第37-42页 |
| 3.4 负向占空比对能耗及膜层性能的影响 | 第42-46页 |
| 3.5 正向占空比对能耗及膜层性能的影响 | 第46-50页 |
| 3.6 本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 微弧氧化陶瓷膜层的形貌表征与组织分析 | 第52-62页 |
| 4.1 工艺参数最终优化 | 第52-55页 |
| 4.2 电流、电压的变化过程 | 第55-56页 |
| 4.3 微弧氧化膜层的微观形貌 | 第56-57页 |
| 4.4 微弧氧化膜层的组织成分 | 第57-58页 |
| 4.5 微弧氧化膜层的 XRD 分析 | 第58-59页 |
| 4.6 微弧氧化膜层的耐蚀性 | 第59-61页 |
| 4.7 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 微弧氧化机理探讨 | 第62-69页 |
| 5.1 机理研究背景 | 第62-64页 |
| 5.2 微弧氧化机理模型 | 第64-66页 |
| 5.3 微弧氧化电极反应 | 第66-67页 |
| 5.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 全文总结与展望 | 第69-71页 |
| 一、结论 | 第69-70页 |
| 二、展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 附件 | 第80页 |
