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基于介质阻挡放电的复合阳极键合机理和工艺设备研究

中文摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第8-18页
    1.1 论文研究背景及意义第8-9页
    1.2 阳极键合技术的发展现状第9-16页
        1.2.1 阳极键技术的理论研究发展现状第9-11页
        1.2.2 阳极键合的工艺研究现状第11-13页
        1.2.3 阳极键合的相关参数第13-14页
        1.2.4 阳极键合的应用第14-16页
        1.2.5 阳极键合质量的评价第16页
    1.3 本课题研究目标以及研究内容第16-18页
        1.3.1 研究目标第16页
        1.3.2 研究内容第16-18页
第二章 复合阳极键合机理分析第18-34页
    2.1 阳极键合原理及过程分析第18-20页
        2.1.1 热场与压力作用下玻璃表面微观蠕变第18-19页
        2.1.2 热场与电场作用下键合界面的物理化学过程第19-20页
    2.2 耗尽层形成分析第20-25页
    2.3 基于介质阻挡放电的等离子体界面活化机理第25-32页
        2.3.1 介质阻挡放电基本原理及应用第25-26页
        2.3.2 介质阻挡放电等离子体对硅/玻璃表面的作用机理第26-31页
        2.3.3 间隙击穿电压与 Pd 值之间的关系第31-32页
    2.4 等离子体对晶片表面的影响第32-33页
        2.4.1 等离子体对玻璃片表面的影响第32-33页
        2.4.2 等离子体对硅片表面的影响第33页
    2.5 本章小结第33-34页
第三章 复合键合系统搭建第34-44页
    3.1 系统整体设计第34-36页
        3.1.1 复合键合系统功能分析与设计需求第34页
        3.1.2 复合键合系统总体方案设计第34-36页
    3.2 关键部件设计与实现第36-43页
        3.2.1 运动作业模块设计与实现第36-39页
        3.2.2 电源模块设计与实现第39-40页
        3.2.3 基于视觉系统的运动设计与实现第40-43页
    3.3 本章小结第43-44页
第四章 复合阳极键合工艺实验研究第44-55页
    4.1 复合阳极键合实验系统第44页
    4.2 表征方法第44-45页
    4.3 复合阳极键合工艺过程第45-47页
    4.4 等离子放电试验第47-48页
    4.5 介质阻挡放电键合实验第48-50页
    4.6 介质阻挡放电对玻璃表面的影响实验第50-51页
    4.7 温度和电压对键合强度的影响实验第51-52页
    4.8 工艺参数优化第52-54页
        4.8.1 正交实验设计第52-54页
        4.8.2 实验结果分析第54页
    4.9 本章小结第54-55页
结论第55-56页
参考文献第56-59页
攻读硕士学位期间科研成果第59-60页
致谢第60-61页

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