| 摘要 | 第3-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 文章综述 | 第13-28页 |
| 1.1 前言 | 第13-14页 |
| 1.2 W_(18)O_(49)材料概述 | 第14-20页 |
| 1.2.1 W_(18)O_(49)制备方法对其形貌的影响 | 第14-15页 |
| 1.2.2 W_(18)O_(49)性能及应用的研究 | 第15-19页 |
| 1.2.3 W_(18)O_(49)半导体材料的近红外光屏蔽原理和隔热原理 | 第19-20页 |
| 1.3 钨青铜材料概述 | 第20-26页 |
| 1.3.1 钨青铜材料制备方法的研究 | 第21-23页 |
| 1.3.2 钨青铜材料性能及应用的研究 | 第23-26页 |
| 1.4 本课题的研究意义和研究内容 | 第26-28页 |
| 1.4.1 课题研究意义 | 第26页 |
| 1.4.2 课题研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 实验研究方法 | 第28-33页 |
| 2.1 主要试剂与仪器 | 第28-29页 |
| 2.2 材料的表征 | 第29-30页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析 | 第29页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜分析 | 第29-30页 |
| 2.2.3 比表面积和孔径分析 | 第30页 |
| 2.2.4 固体紫外-可见漫反射光谱分析 | 第30页 |
| 2.2.5 X射线光电子能谱分析 | 第30页 |
| 2.3 光催化性能评价 | 第30-32页 |
| 2.3.1 甲基橙溶液标准曲线的绘制 | 第31-32页 |
| 2.3.2 甲基橙溶液降解实验 | 第32页 |
| 2.4 薄膜隔热性能的评价 | 第32-33页 |
| 第三章 W_(18)O_(49)纳米材料的制备及性能研究 | 第33-44页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 实验部分 | 第33-35页 |
| 3.2.1 纳米W_(18)O_(49)材料的制备 | 第33-34页 |
| 3.2.2 W_(18)O_(49)薄膜的制备 | 第34-35页 |
| 3.2.3 光催化性能测试 | 第35页 |
| 3.2.4 W_(18)O_(49)薄膜玻璃隔热性能测试 | 第35页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第35-42页 |
| 3.3.1 反应溶剂对W_(18)O_(49)物相及性能的影响 | 第35-37页 |
| 3.3.2 表面活性剂对样品的物相及性能的影响 | 第37-40页 |
| 3.3.3 样品的XPS分析 | 第40-41页 |
| 3.3.4 光催化活性分析 | 第41-42页 |
| 3.3.5 样品隔热性能分析 | 第42页 |
| 3.4 本章总结 | 第42-44页 |
| 第四章 钨青铜纳米材料的制备及性能研究 | 第44-66页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 实验部分 | 第44-47页 |
| 4.2.1 钨青铜M_xWO_3(M=K~+,Na~+,Cs~+)材料的制备 | 第44-47页 |
| 4.2.2 钨青铜M_xWO_3(M=K~+,Na~+,Cs~+)薄膜的制备 | 第47页 |
| 4.2.3 隔热性能测试 | 第47页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第47-64页 |
| 4.3.1 Na_xWO_3物相及性能分析 | 第47-52页 |
| 4.3.2 K_xWO_3物相及性能分析 | 第52-56页 |
| 4.3.3 Cs_xWO_3物相及性能分析 | 第56-64页 |
| 4.3.4 碱金属钨青铜的红外屏蔽性能对比 | 第64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 结论 | 第66-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第80页 |
