摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
1 绪论 | 第9-17页 |
1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-12页 |
1.1.1 研究背景和目的 | 第9页 |
1.1.2 意义 | 第9-12页 |
1.2 重离子微孔膜的概况 | 第12-15页 |
1.2.1 重离子微孔膜的起源 | 第12页 |
1.2.2 重离子微孔膜的发展 | 第12页 |
1.2.3 重离子微孔膜的特性 | 第12-14页 |
1.2.4 重离子微孔膜的应用领域 | 第14-15页 |
1.3 纳米孔径重离子微孔膜的研究现状 | 第15-17页 |
1.3.1 辐照装置 | 第16页 |
1.3.2 使用的有机膜 | 第16页 |
1.3.3 离子源 | 第16-17页 |
1.3.4 敏化 | 第17页 |
1.3.5 蚀刻 | 第17页 |
1.3.6 成孔大小 | 第17页 |
2 理论基础 | 第17-32页 |
2.1 HI-13静电串列加速器及辐照装置介绍 | 第18-24页 |
2.1.1 加速器简介 | 第18-19页 |
2.1.2 串列加速器 | 第19-21页 |
2.1.3 HI-13串列加速器重离子扫描辐照装置 | 第21-24页 |
2.2 重离子辐射损伤 | 第24-28页 |
2.2.1 重离子与物质的相互作用过程 | 第24-25页 |
2.2.2 重离子辐照效应 | 第25-27页 |
2.2.3 潜径迹的形成 | 第27-28页 |
2.2.4 重离子辐射损伤产生核径迹的模型解释 | 第28页 |
2.3 敏化和化学蚀刻阶段的理论基础 | 第28-30页 |
2.3.1 敏化 | 第28-29页 |
2.3.2 化学蚀刻 | 第29-30页 |
2.4 用于监测的仪器 | 第30-32页 |
3 实验部分 | 第32-39页 |
3.1 薄膜材料 | 第32页 |
3.1.1 辐照薄膜的选择 | 第32页 |
3.1.2 PET膜的特性 | 第32页 |
3.2 加速器辐照 | 第32-36页 |
3.2.1 能量损失计算 | 第32-35页 |
3.2.2 加速器辐照要求 | 第35-36页 |
3.3 紫外线敏化 | 第36-37页 |
3.4 蚀刻装置 | 第37-38页 |
3.5 蚀刻 | 第38-39页 |
3.5.1 通过重量损失测基体蚀刻速度 | 第38页 |
3.5.2 径迹蚀刻速度的测量 | 第38-39页 |
3.5.3 电镜观察 | 第39页 |
4 实验结果 | 第39-58页 |
4.1 敏化对蚀刻速率影响的研究 | 第39-44页 |
4.1.1 敏化对体蚀刻速率的影响 | 第40页 |
4.1.2 紫外线照射对未陈化膜的径迹蚀刻速率的影响 | 第40-41页 |
4.1.3 紫外线照射对V_t/V_b的影响 | 第41-42页 |
4.1.4 紫外线照射对陈化膜及膜孔径的影响 | 第42-44页 |
4.2 蚀刻速率的测量结果 | 第44-47页 |
4.2.1 12μm的~(32)S离子辐照膜的V_b、V_t、V_t/V_b | 第44-45页 |
4.2.2 18μm的~(32)S离子辐照膜的V_b、V_t、V_t/V_b | 第45-46页 |
4.2.3 12μm的~(79)Br离子辐照膜的V_b、V_t、V_t/V_b | 第46-47页 |
4.3 最佳蚀刻条件的选定 | 第47-48页 |
4.4 纳米孔径膜的制备结果 | 第48-56页 |
4.4.1 未蚀刻的膜的电镜图 | 第48-49页 |
4.4.2 经~(32)S和~(79)Br离子辐照的薄膜孔径与蚀刻时间的关系 | 第49页 |
4.4.3 经~(32)S离子辐照12μm厚的PET制备的纳米孔径膜结果 | 第49-51页 |
4.4.4 经~(79)Br离子辐照12μm厚的PET制备的纳米孔径膜结果 | 第51-53页 |
4.4.5 经~(32)S离子辐照18μm厚的PET制备的纳米孔径膜结果 | 第53-55页 |
4.4.6 经~(32)S离子辐照20μm厚的PET制备的纳米孔径膜结果 | 第55-56页 |
4.5 离子~(32)S和~(79)Br辐照制备出膜的孔型比较 | 第56-58页 |
5 总结与展望 | 第58-60页 |
5.1 总结 | 第58页 |
5.2 展望 | 第58-60页 |
致谢 | 第60-61页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第61页 |
参考文献 | 第61-64页 |