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纳米孔径重离子微孔膜的制备研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
1 绪论第9-17页
    1.1 课题背景及研究的目的和意义第9-12页
        1.1.1 研究背景和目的第9页
        1.1.2 意义第9-12页
    1.2 重离子微孔膜的概况第12-15页
        1.2.1 重离子微孔膜的起源第12页
        1.2.2 重离子微孔膜的发展第12页
        1.2.3 重离子微孔膜的特性第12-14页
        1.2.4 重离子微孔膜的应用领域第14-15页
    1.3 纳米孔径重离子微孔膜的研究现状第15-17页
        1.3.1 辐照装置第16页
        1.3.2 使用的有机膜第16页
        1.3.3 离子源第16-17页
        1.3.4 敏化第17页
        1.3.5 蚀刻第17页
        1.3.6 成孔大小第17页
2 理论基础第17-32页
    2.1 HI-13静电串列加速器及辐照装置介绍第18-24页
        2.1.1 加速器简介第18-19页
        2.1.2 串列加速器第19-21页
        2.1.3 HI-13串列加速器重离子扫描辐照装置第21-24页
    2.2 重离子辐射损伤第24-28页
        2.2.1 重离子与物质的相互作用过程第24-25页
        2.2.2 重离子辐照效应第25-27页
        2.2.3 潜径迹的形成第27-28页
        2.2.4 重离子辐射损伤产生核径迹的模型解释第28页
    2.3 敏化和化学蚀刻阶段的理论基础第28-30页
        2.3.1 敏化第28-29页
        2.3.2 化学蚀刻第29-30页
    2.4 用于监测的仪器第30-32页
3 实验部分第32-39页
    3.1 薄膜材料第32页
        3.1.1 辐照薄膜的选择第32页
        3.1.2 PET膜的特性第32页
    3.2 加速器辐照第32-36页
        3.2.1 能量损失计算第32-35页
        3.2.2 加速器辐照要求第35-36页
    3.3 紫外线敏化第36-37页
    3.4 蚀刻装置第37-38页
    3.5 蚀刻第38-39页
        3.5.1 通过重量损失测基体蚀刻速度第38页
        3.5.2 径迹蚀刻速度的测量第38-39页
        3.5.3 电镜观察第39页
4 实验结果第39-58页
    4.1 敏化对蚀刻速率影响的研究第39-44页
        4.1.1 敏化对体蚀刻速率的影响第40页
        4.1.2 紫外线照射对未陈化膜的径迹蚀刻速率的影响第40-41页
        4.1.3 紫外线照射对V_t/V_b的影响第41-42页
        4.1.4 紫外线照射对陈化膜及膜孔径的影响第42-44页
    4.2 蚀刻速率的测量结果第44-47页
        4.2.1 12μm的~(32)S离子辐照膜的V_b、V_t、V_t/V_b第44-45页
        4.2.2 18μm的~(32)S离子辐照膜的V_b、V_t、V_t/V_b第45-46页
        4.2.3 12μm的~(79)Br离子辐照膜的V_b、V_t、V_t/V_b第46-47页
    4.3 最佳蚀刻条件的选定第47-48页
    4.4 纳米孔径膜的制备结果第48-56页
        4.4.1 未蚀刻的膜的电镜图第48-49页
        4.4.2 经~(32)S和~(79)Br离子辐照的薄膜孔径与蚀刻时间的关系第49页
        4.4.3 经~(32)S离子辐照12μm厚的PET制备的纳米孔径膜结果第49-51页
        4.4.4 经~(79)Br离子辐照12μm厚的PET制备的纳米孔径膜结果第51-53页
        4.4.5 经~(32)S离子辐照18μm厚的PET制备的纳米孔径膜结果第53-55页
        4.4.6 经~(32)S离子辐照20μm厚的PET制备的纳米孔径膜结果第55-56页
    4.5 离子~(32)S和~(79)Br辐照制备出膜的孔型比较第56-58页
5 总结与展望第58-60页
    5.1 总结第58页
    5.2 展望第58-60页
致谢第60-61页
攻读硕士期间发表的论文第61页
参考文献第61-64页

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