| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-34页 |
| 1.1 课题研究的背景与目的 | 第12-13页 |
| 1.2 表面等离子体的研究历史和机理概述 | 第13-18页 |
| 1.2.1 表面等离子体研究的历史背景 | 第14-15页 |
| 1.2.2 表面等离子体的机理概述 | 第15-18页 |
| 1.3 金属纳米结构用于光场调制的研究现状 | 第18-32页 |
| 1.3.1 亚波长干涉光刻技术 | 第18-25页 |
| 1.3.2 金属纳米结构的光场吸收特性 | 第25-28页 |
| 1.3.3 金属纳米沟槽中的光学漏斗效应 | 第28-32页 |
| 1.4 本研究领域存在的关键技术问题和科学问题 | 第32页 |
| 1.5 课题研究来源及主要研究内容 | 第32-34页 |
| 第2章 多层膜金属纳米结构的光场调制方法分析 | 第34-44页 |
| 2.1 引言 | 第34页 |
| 2.2 等效介质理论模型与矢量数值仿真方法 | 第34-37页 |
| 2.2.1 等效介质理论 | 第34-35页 |
| 2.2.2 数值仿真方法 | 第35-37页 |
| 2.3 等效介质理论与与严格矢量分析方法在多层膜结构中的应用和对比 | 第37-43页 |
| 2.3.1 多层膜材料中扩散角度的分析 | 第37-40页 |
| 2.3.2 金属/电介质多层结构反射性质的分析 | 第40-41页 |
| 2.3.3 等效介质理论在分析干涉图案中的局限性 | 第41-43页 |
| 2.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 金属/电介质多层膜纳米结构的近场光学特性及器件加工实验研究 | 第44-63页 |
| 3.1 引言 | 第44页 |
| 3.2 金属/电介质多层结构传播特性的理论模型 | 第44-48页 |
| 3.2.1 金属/电介质多层结构的色散关系曲线 | 第44-46页 |
| 3.2.2 多层结构表面等离子体传输特性理论分析 | 第46-48页 |
| 3.3 多层波导结构中表面等离子体传播特性的数值仿真 | 第48-55页 |
| 3.3.1 单缝和多缝结构的光场分布 | 第48-51页 |
| 3.3.2 周期性结构在干涉光刻中的应用 | 第51-55页 |
| 3.4 纳米光栅和干涉器件加工实验 | 第55-61页 |
| 3.4.1 干涉法制作大面积光栅结构 | 第55-58页 |
| 3.4.2 纳米压印技术制作大面积光栅结构 | 第58-60页 |
| 3.4.3 金属/电介质多层膜干涉光刻器件的制作 | 第60-61页 |
| 3.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 第4章 金属纳米结构对光场吸收带宽的调制及应用研究 | 第63-80页 |
| 4.1 引言 | 第63页 |
| 4.2 金属/电介质/金属波导结构光学性能分析 | 第63-66页 |
| 4.3 宽波段光能吸收器的结构设计与性能分析 | 第66-74页 |
| 4.4 宽波段光能吸收器的应用研究 | 第74-76页 |
| 4.5 等离子宽波段光能吸收器的制作与光学性能测试 | 第76-78页 |
| 4.6 本章小结 | 第78-80页 |
| 第5章 纳米沟槽结构中光学漏斗效应的研究 | 第80-97页 |
| 5.1 引言 | 第80页 |
| 5.2 光学漏斗结构的特点 | 第80-81页 |
| 5.3 金属/电介质多层膜结构中的光学漏斗效应 | 第81-91页 |
| 5.3.1 结构设计与机理分析 | 第81-85页 |
| 5.3.2 结构参数对反射谱的影响 | 第85-89页 |
| 5.3.3 多层膜宽波段吸收器的设计与仿真分析 | 第89-91页 |
| 5.4 单层金属膜中基于光学漏斗效应的宽波段吸收 | 第91-93页 |
| 5.5 光学漏斗结构的制作和光学性能测试 | 第93-95页 |
| 5.6 本章小结 | 第95-97页 |
| 结论 | 第97-100页 |
| 参考文献 | 第100-109页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第109-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
| 个人简历 | 第112页 |
