中文摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第9-15页 |
1.1 选题背景 | 第9-12页 |
1.2 国内外梳状滤波器技术发展 | 第12-15页 |
1.2.1 晶体型梳状滤波器 | 第12-13页 |
1.2.2 马赫-泽德干涉仪(MZI)型梳状滤波器 | 第13页 |
1.2.3 迈克尔逊干涉仪型梳状滤波器 | 第13-14页 |
1.2.4 F-P干涉仪型梳状滤波器 | 第14-15页 |
第二章 基于双折射晶体梳状滤波器的原理和结构设计 | 第15-37页 |
2.1 梳状滤波器的功能与应用 | 第15-16页 |
2.2 双折射晶体梳状滤波器实现原理 | 第16-19页 |
2.3 温度补偿方法 | 第19-22页 |
2.4 双折射晶体梳状滤波器的结构 | 第22-24页 |
2.5 双折射晶体梳状滤波器部分材料设计 | 第24-34页 |
2.5.1 单光纤准直器设计要求 | 第24-27页 |
2.5.2 波片设计要求 | 第27-28页 |
2.5.3 斜方棱镜设计要求 | 第28-29页 |
2.5.4 YVO4 设计要求 | 第29-30页 |
2.5.5 PMD补偿块设计要求 | 第30页 |
2.5.6 晶体组件设计要求 | 第30-34页 |
2.6 双折射晶体梳状滤波器的指标与参数定义 | 第34-37页 |
第三章 双折射晶体梳状滤波器的制作 | 第37-61页 |
3.1 壳体制备 | 第37-40页 |
3.1.1 工位搭建 | 第37页 |
3.1.2 平台光路校准 | 第37-38页 |
3.1.3 壳体预处理 | 第38页 |
3.1.4 壳体内平面光路修正 | 第38页 |
3.1.5 放置晶体支架 | 第38页 |
3.1.6 调整棱镜位置并固化 | 第38-39页 |
3.1.7 直角棱镜构件上胶及调试 | 第39-40页 |
3.1.8 上胶固化 | 第40页 |
3.2 波片制备 | 第40-42页 |
3.2.1 1 | 第40-41页 |
3.2.2 2 | 第41页 |
3.2.3 3 | 第41-42页 |
3.3 晶体制备 | 第42-49页 |
3.3.1 YVO4 和金红石标号 | 第42-43页 |
3.3.2 YVO4 和金红石单体测试 | 第43-44页 |
3.3.3 YVO4 和金红石匹配、测试 | 第44-48页 |
3.3.4 晶体清洁上胶 | 第48页 |
3.3.5 晶体烘烤循环 | 第48页 |
3.3.6 晶体测试 | 第48-49页 |
3.4 器件调试 | 第49-57页 |
3.4.1 准直器装配 | 第49页 |
3.4.2 Input准直器调节 | 第49-50页 |
3.4.3 Output准直器调节 | 第50-51页 |
3.4.4 晶体筛选 | 第51-52页 |
3.4.5 波片匹配 | 第52-55页 |
3.4.6 前后部YVO4 和斜方棱镜固定 | 第55页 |
3.4.7 准直器焊接 | 第55-57页 |
3.5 器件封盖测漏 | 第57-59页 |
3.5.1 封盖板 | 第57-58页 |
3.5.2 测漏 | 第58-59页 |
3.6 器件封端帽、堵检漏孔 | 第59-60页 |
3.6.1 封检漏孔 | 第59-60页 |
3.6.2 封端帽 | 第60页 |
3.7 器件半成品测试、成品测试 | 第60-61页 |
第四章 基于双折射晶体梳状滤波器性能测试与结果分析 | 第61-68页 |
4.1 基于双折射晶体梳状滤波器测试 | 第61-62页 |
4.1.1 测试设备 | 第61页 |
4.1.2 存光 | 第61页 |
4.1.3 常温测试 | 第61页 |
4.1.4 低温测试 | 第61-62页 |
4.1.5 高温测试 | 第62页 |
4.2 产品测试指标统计与分析 | 第62-68页 |
第五章 基于双折射晶体梳状滤波器可靠性测试与分析 | 第68-79页 |
5.1 可靠性试验内容和要求 | 第68-69页 |
5.1.1 试验样本 | 第68页 |
5.1.2 试验条件 | 第68-69页 |
5.1.3 判定标准 | 第69页 |
5.2 试验结果与结论 | 第69页 |
5.3 试验数据 | 第69-79页 |
5.3.1 高温高湿存储试验数据 | 第69-72页 |
5.3.2 高温存储(干热)试验数据 | 第72-74页 |
5.3.3 高低温循环试验数据 | 第74-76页 |
5.3.4 其他试验数据 | 第76-79页 |
第六章 论文总结 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-83页 |
致谢 | 第83页 |