| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-20页 |
| ·半导体光催化背景概述 | 第11-12页 |
| ·半导体光催化原理 | 第12-13页 |
| ·半导体光催化剂的改善方法 | 第13-17页 |
| ·立题依据与研究方案 | 第17-20页 |
| 第二章 催化剂制备和研究方法 | 第20-24页 |
| ·原料与试剂 | 第20页 |
| ·催化剂表征方法 | 第20-22页 |
| ·光催化剂的制备 | 第22-23页 |
| ·光催化活性测试 | 第23-24页 |
| 第三章 醇热法合成高效光催化剂 Bi_2WO_6及其光催化性能研究 | 第24-32页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·催化剂的结构表征 | 第24-29页 |
| ·催化剂的光催化活性评价 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 水热法合成{001}面暴露结构可控的二氧化钛微米球 | 第32-44页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·催化剂的结构表征 | 第33-41页 |
| ·中空微米球的形成机理 | 第41-42页 |
| ·光催化选择性氧化活性评价 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 醇热法合成{001}高暴露率的单晶微米片层状二氧化钛 | 第44-55页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·催化剂的结构表征 | 第44-52页 |
| ·催化剂的形成机理 | 第52-53页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 尺寸及{001}面暴露率可控的单晶二氧化钛的合成 | 第55-67页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·催化剂的结构表征 | 第55-65页 |
| ·不同催化剂样品的活性评价 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第七章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 个人简历 | 第76页 |
| 论文发表情况 | 第76页 |
| 会议论文 | 第76页 |
