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氧化铋等铋基光催化材料的制备工艺及其性能研究

摘要第5-6页
Abstract第6页
1 绪论第9-21页
    1.1 前言第9-10页
    1.2 半导体光催化的介绍及其基本原理第10-12页
        1.2.1 半导体光催化的介绍第10页
        1.2.2 半导体光催化的基本原理第10-12页
    1.3 铋系半导体光催化材料的研究第12-13页
    1.4 氧化铋(Bi_2O_3)光催化剂第13-19页
        1.4.1 氧化铋(Bi_2O_3)光催化剂的性质与晶相第13-14页
        1.4.2 氧化铋(Bi_2O_3)光催化剂的制备方法第14-17页
        1.4.3 Bi_2O_3的应用第17-19页
    1.5 Bi_5O_7NO_3以及碱式硝酸铋光催化剂第19-20页
    1.6 本论文的研究意义及主要内容第20-21页
2 柱状Bi_2O_3纳米晶的制备、表征及光催化性能研究第21-41页
    2.1 引言第21-22页
    2.2 试剂及仪器第22-23页
        2.2.1 试剂第22页
        2.2.2 仪器第22-23页
    2.3 柱状Bi_2O_3纳米晶的制备第23页
    2.4 柱状Bi_2O_3纳米晶的表征第23-29页
        2.4.1 X-射线粉末衍射(XRD)第23-24页
        2.4.2 拉曼光谱(Raman)表征第24页
        2.4.3 透射电子显微镜(TEM)及扫描电子显微镜(SEM)表征第24-25页
        2.4.4 X-射线光电子能谱(XPS)表征第25-26页
        2.4.5 比表面积和孔径分布(BET)分析第26-28页
        2.4.6 紫外-可见漫反射光谱(DRS)表征第28-29页
    2.5 反应条件对Bi_2O_3纳米晶微结构的影响第29-34页
        2.5.1 反应时间的影响第29-30页
        2.5.2 碱量的影响第30-31页
        2.5.3 铋源的影响第31-32页
        2.5.4 形貌控制剂的影响第32-33页
        2.5.5 柱状Bi_2O_3的生成机理第33-34页
    2.6 Bi_2O_3纳米晶的光催化性能第34-39页
        2.6.1 方法原理第34页
        2.6.2 光催化性能的测试实验第34-35页
        2.6.3 吸附效率分析第35页
        2.6.4 光催化效果分析第35-39页
    2.7 本章小结第39-41页
3 Bi_2O_3等铋基化合物的制备、表征及光催化性能研究第41-62页
    3.1 引言第41-42页
    3.2 试剂及仪器第42页
        3.2.1 试剂第42页
        3.2.2 仪器第42页
    3.3 Bi_2O_3纳米晶以及硝酸氧铋的制备第42-43页
    3.4 铋基化合物的表征第43-52页
        3.4.1 X-射线粉末衍射(XRD)表征第43-46页
        3.4.2 透射电子显微镜(TEM)及扫描电子显微镜(SEM)表征第46-48页
        3.4.3 X-射线光电子能谱(XPS)表征第48-49页
        3.4.4 比表面积测定第49-51页
        3.4.5 紫外-可见漫反射光谱(DRS)表征第51-52页
    3.5 反应机理研究第52-54页
    3.6 氧化铋等铋基化合物的光催化性能研究第54-60页
        3.6.1 实验方法第54页
        3.6.2 实验过程第54页
        3.6.3 吸附效果分析第54-55页
        3.6.4 光催化效果分析第55-60页
        3.6.5 BiON催化剂降解MO实验研究第60页
    3.7 本章小结第60-62页
4 本文总结第62-63页
致谢第63-64页
参考文献第64-75页
附录第75页

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