| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第13-21页 |
| 1.1 超细铜粉的制备方法简介 | 第13-16页 |
| 1.1.1 固相法制备超细铜粉研究进展综述 | 第13-14页 |
| 1.1.2 液相法制备超细铜粉研究进展综述 | 第14-15页 |
| 1.1.3 气相法制备超细铜粉研究进展综述 | 第15-16页 |
| 1.2 关于铜的分子动力学模拟国内外研究现状 | 第16-18页 |
| 1.3 选题意义和课题研究内容 | 第18-20页 |
| 1.3.1 选题意义 | 第18-19页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第19-20页 |
| 1.4 论文的特色与创新之处 | 第20-21页 |
| 第二章 理论基础 | 第21-35页 |
| 2.1 分子动力学模拟的研究发展进程 | 第21页 |
| 2.2 分子动力学原理 | 第21-25页 |
| 2.2.1 分子动力学的基本原理和基本方程 | 第21-22页 |
| 2.2.2 Hamilton运动方程的求解 | 第22-24页 |
| 2.2.3 边界条件 | 第24页 |
| 2.2.4 系综原理 | 第24-25页 |
| 2.3 原子间的相互作用势 | 第25-29页 |
| 2.3.1 对势 | 第26-27页 |
| 2.3.2 多体势 | 第27页 |
| 2.3.3 EAM理论 | 第27-29页 |
| 2.4 控温与控压方法 | 第29-31页 |
| 2.4.1 温度控制方法 | 第29-30页 |
| 2.4.2 压力控制方法 | 第30-31页 |
| 2.5 界面及界面现象 | 第31页 |
| 2.6 静态结构性质 | 第31-32页 |
| 2.6.1 均方位移及自扩散系数 | 第31页 |
| 2.6.2 径向分布函数g(r)及配位数 | 第31-32页 |
| 2.6.3 速度自相关函数 | 第32页 |
| 2.7 本章小结 | 第32-35页 |
| 第三章 ME分子动力学模拟真空下铜的熔化过程 | 第35-61页 |
| 3.1 模拟方法 | 第35页 |
| 3.2 扩散性质的模拟 | 第35-43页 |
| 3.2.1 均方位移(MSD)的计算 | 第35-38页 |
| 3.2.2 自扩散系数的计算 | 第38-41页 |
| 3.2.3 计算自扩散激活能及指前因子 | 第41-43页 |
| 3.3 密度的计算 | 第43-45页 |
| 3.4 径向分布函数的计算 | 第45-56页 |
| 3.4.1 径向分布函数及配位数的计算 | 第46-56页 |
| 3.5 不同温度下的原子位形 | 第56-57页 |
| 3.6 热力学性质的模拟 | 第57-59页 |
| 3.6.1 内能函数曲线 | 第57-58页 |
| 3.6.2 体系内能与体积 | 第58-59页 |
| 3.7 本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 采用从头算分子动力学模拟铜的熔化过程 | 第61-75页 |
| 4.1 模拟过程 | 第61-62页 |
| 4.2 径向分布函数及配位数 | 第62-68页 |
| 4.2.1 径向分布函数(RDF) | 第62-65页 |
| 4.2.2 配位数(CN) | 第65-66页 |
| 4.2.3 静态结构因子 | 第66-68页 |
| 4.3 分波态密度(PDOS) | 第68-71页 |
| 4.4 速度自相关函数(VACF) | 第71-74页 |
| 4.5 本章小结 | 第74-75页 |
| 第五章 铜的气-液界面微观特性的分子动力学模拟研究 | 第75-91页 |
| 5.1 蒸发-冷凝过程的分子动力学模拟研究 | 第75-76页 |
| 5.1.1 气-液界面特性分析 | 第75-76页 |
| 5.2 控制条件和方法 | 第76-78页 |
| 5.2.1 积分步长的选取 | 第77页 |
| 5.2.2 截断半径的选取 | 第77-78页 |
| 5.3 气液界面结构 | 第78-85页 |
| 5.3.1 气-液界面密度分布 | 第79-82页 |
| 5.3.2 气-液界面过渡区的温度分布 | 第82-83页 |
| 5.3.3 气-液界面层的动能分布 | 第83-84页 |
| 5.3.4 气-液界面层厚度随温度的变化 | 第84-85页 |
| 5.4 不同压力下的浓度对比 | 第85-86页 |
| 5.5 麦克斯韦速率分布曲线 | 第86-87页 |
| 5.6 蒸发系数的计算 | 第87-88页 |
| 5.7 降温过程模拟 | 第88-89页 |
| 5.7.1 模拟体系的建立 | 第88页 |
| 5.7.2 模拟结果与讨论 | 第88-89页 |
| 5.8 本章小结 | 第89-91页 |
| 第六章 铜纳米液滴蒸发、冷凝过程的分子动力学模拟 | 第91-103页 |
| 6.1 控制条件和模拟方法 | 第91-93页 |
| 6.2 扩散性质的模拟 | 第93-95页 |
| 6.2.1 均方位移的计算(MSD) | 第93-94页 |
| 6.2.2 自扩散系数的模拟计算 | 第94-95页 |
| 6.3 径向分布函数 | 第95-96页 |
| 6.4 液滴的大小随温度的变化 | 第96-98页 |
| 6.4.1 800个铜原子液滴的位形 | 第96-97页 |
| 6.4.2 14896个铜原子液滴的位形 | 第97-98页 |
| 6.5 液滴的大小随时间的变化 | 第98-99页 |
| 6.6 纳米液滴冷却、凝固过程的分子动力学模拟 | 第99-100页 |
| 6.6.1 冷凝过程扩散性质的模拟 | 第99-100页 |
| 6.6.1.1 均方位移的计算(MSD) | 第99-100页 |
| 6.6.1.2 自扩散系数的计算 | 第100页 |
| 6.7 本章小结 | 第100-103页 |
| 第七章 真空蒸发-冷凝制备铜粉的实验研究 | 第103-111页 |
| 7.1 实验基本原理及设备 | 第103-107页 |
| 7.1.1 实验原理 | 第103-105页 |
| 7.1.2 实验设备、原料 | 第105-107页 |
| 7.2 实验步骤 | 第107页 |
| 7.3 实验现象及过程 | 第107-108页 |
| 7.3.1 铜烟和铜蒸发速率的变化规律 | 第107-108页 |
| 7.3.2 超细铜粉的沉积过程及沉积状态 | 第108页 |
| 7.4 实验结果和分析 | 第108-110页 |
| 7.4.1 铜粉的颗粒形貌分析 | 第108-109页 |
| 7.4.2 铜粉的化学成分分析 | 第109页 |
| 7.4.3 超细铜粉的物相分析 | 第109-110页 |
| 7.5 本章小结 | 第110-111页 |
| 第八章 结论与展望 | 第111-113页 |
| 8.1 结论 | 第111-112页 |
| 8.2 展望 | 第112-113页 |
| 致谢 | 第113-115页 |
| 参考文献 | 第115-131页 |
| 附录 攻读博士期间发表论文 | 第131页 |