| 中文摘要 | 第2-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 中文文摘 | 第6-11页 |
| 绪论 | 第11-31页 |
| 0.1 氯酚类化合物的来源及危害 | 第11页 |
| 0.2 氯酚类化合物的处理技术进展 | 第11-16页 |
| 0.2.1 物理法 | 第12-13页 |
| 0.2.2 微生物降解 | 第13-14页 |
| 0.2.3 化学氧化技术 | 第14-15页 |
| 0.2.4 化学还原法 | 第15-16页 |
| 0.3 分子印迹技术 | 第16-21页 |
| 0.3.1 分子印迹技术的发展 | 第16页 |
| 0.3.2 分子印迹技术的原理 | 第16-18页 |
| 0.3.3 分子印迹技术的应用 | 第18-21页 |
| 0.4 分子印迹膜的制备方法 | 第21-23页 |
| 0.4.1 分子印迹填充膜 | 第21页 |
| 0.4.2 分子印迹整体膜 | 第21-22页 |
| 0.4.3 分子印迹复合膜 | 第22-23页 |
| 0.5 分子印迹膜的传质机理 | 第23-24页 |
| 0.6 双极膜的原理及应用 | 第24-25页 |
| 0.6.1 在化工、轻工方面的应用 | 第24页 |
| 0.6.2 在食品、医药方面的应用 | 第24-25页 |
| 0.6.3 在能源,污染治理方面的应用 | 第25页 |
| 0.7 载钯修饰电极 | 第25-26页 |
| 0.8 本论文研究目的及内容 | 第26-31页 |
| 0.8.1 研究目的 | 第26-27页 |
| 0.8.2 研究思路 | 第27-28页 |
| 0.8.3 研究内容 | 第28-31页 |
| 第一章 印迹膜的制备与表征 | 第31-47页 |
| 1.1 前言 | 第31页 |
| 1.2 实验部分 | 第31-34页 |
| 1.2.1 试剂与仪器 | 第31-32页 |
| 1.2.2 不同印迹膜的制备 | 第32-33页 |
| 1.2.3 印迹膜形貌表征与性能测定 | 第33-34页 |
| 1.3 结果与讨论 | 第34-46页 |
| 1.3.1 单体材料的选择 | 第34-37页 |
| 1.3.2 光照对印迹膜渗透性能的影响 | 第37-38页 |
| 1.3.3 PVA的添加量对印迹膜渗透性能的影响 | 第38-39页 |
| 1.3.4 CMC与2,4-DCP的质量比对印迹膜的影响 | 第39-40页 |
| 1.3.5 交联、洗脱顺序对印迹膜渗透性的影响 | 第40-41页 |
| 1.3.6 吸附动力学 | 第41-44页 |
| 1.3.7 印迹膜的选择性吸附性能 | 第44-45页 |
| 1.3.8 印迹膜与非印迹膜的表面形貌 | 第45-46页 |
| 1.4 小结 | 第46-47页 |
| 第二章 修饰电极结合双极膜去除2,4-DCP的研究 | 第47-59页 |
| 2.1 前言 | 第47-48页 |
| 2.2 实验部分 | 第48-50页 |
| 2.2.1 试剂与仪器 | 第48页 |
| 2.2.2 电极的制备与表征 | 第48-49页 |
| 2.2.3 CMC-PVA/ CS-PVA双极膜的制备 | 第49页 |
| 2.2.4 2,4-二氯酚的去除实验 | 第49-50页 |
| 2.2.5 不同电极对氯酚降解效率的影响 | 第50页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第50-56页 |
| 2.3.1 不同电极的表面形态 | 第50-51页 |
| 2.3.2 不同电极表面的XRD测试 | 第51-52页 |
| 2.3.3 不同电极对槽电压的影响 | 第52-53页 |
| 2.3.4 不同电极对2,4-DCP去除的影响 | 第53页 |
| 2.3.5 硫酸浓度对2,4-DCP去除率的影响 | 第53-56页 |
| 2.4 结论 | 第56-59页 |
| 第三章 印迹膜结合双极膜技术去除2,4-DCP的研究 | 第59-71页 |
| 3.1 前言 | 第59页 |
| 3.2 实验部分 | 第59-62页 |
| 3.2.1 试剂与仪器 | 第59-60页 |
| 3.2.2 Pd/Ti电极的制备 | 第60页 |
| 3.2.3 印迹膜-双极膜的制备与表征 | 第60-61页 |
| 3.2.4 2,4-二氯酚的去除实验 | 第61-62页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第62-69页 |
| 3.3.1 不同电极对2,4-DCP去除率的影响 | 第62-63页 |
| 3.3.2 不同电极对槽电压的影响 | 第63-64页 |
| 3.3.3 双极膜复合印迹膜后对去除率的影响 | 第64-65页 |
| 3.3.4 硫酸浓度对2,4-DCP去除率的影响 | 第65-66页 |
| 3.3.5 2,4-DCP初始浓度对去除率的影响 | 第66-69页 |
| 3.4 结论 | 第69-71页 |
| 第四章 总结和展望 | 第71-75页 |
| 4.1 总结 | 第71-72页 |
| 4.1.1 2,4-DCP分子印迹膜的制备与表征研究 | 第71页 |
| 4.1.2 载钯修饰电极结合双极膜技术去除2,4-DCP的研究 | 第71-72页 |
| 4.1.3 印迹膜结合双极膜技术去除2,4-DCP的研究 | 第72页 |
| 4.2 展望 | 第72-75页 |
| 参考文献 | 第75-85页 |
| 攻读学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第85-87页 |
| 致谢 | 第87-89页 |
| 个人简历 | 第89-92页 |
