摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 前言 | 第11-23页 |
1.1 金属腐蚀的现状 | 第11-12页 |
1.2 有机涂层防护机理 | 第12-14页 |
1.3 有机涂层的阴极剥离 | 第14-16页 |
1.3.1 有机涂层的阴极剥离 | 第14页 |
1.3.2 有机涂层阴极剥离的机理 | 第14-15页 |
1.3.3 阴极剥离在涂层失效中的作用 | 第15页 |
1.3.4 影响有机涂层阴极剥离的因素 | 第15-16页 |
1.4 破损涂层下的阴极迁移 | 第16-18页 |
1.5 研究破损涂层下阴极迁移的手段 | 第18-21页 |
1.5.1 电化学阻抗谱(EIS)技术 | 第18-19页 |
1.5.2 扫描Kelvin探针(SKP)技术 | 第19-20页 |
1.5.3 局部电化学阻抗谱(LEIS)技术 | 第20页 |
1.5.4 阵列电极(WBE)技术 | 第20-21页 |
1.6 课题的研究意义和研究内容 | 第21-23页 |
1.6.1 研究意义 | 第21-22页 |
1.6.2 研究内容 | 第22-23页 |
第二章 实验材料与装置 | 第23-29页 |
2.1 试样制备 | 第23页 |
2.2 涂层制备 | 第23页 |
2.3 化学试剂 | 第23-24页 |
2.4 实验装置和测试仪器 | 第24-29页 |
2.4.1 实验装置与涂层破损方式 | 第24-27页 |
2.4.2 测试仪器与方法 | 第27-29页 |
第三章 联合WBE和EIS技术建立涂层下阴极迁移过程评价方法 | 第29-43页 |
3.1 前言 | 第29-32页 |
3.2 实验方法 | 第32页 |
3.3 结果与讨论 | 第32-41页 |
3.3.1 电位分布与阻抗分布的相关性 | 第32-33页 |
3.3.2 电流分布与阻抗分布的相关性 | 第33-34页 |
3.3.3 四组体系浸泡实验过程中电流密度分布图和阻抗分布图的对比分析 | 第34-41页 |
3.4 本章小结 | 第41-43页 |
第四章 不同破损面积下电极的腐蚀过程和涂层的失效特征 | 第43-56页 |
4.1 前言 | 第43-44页 |
4.2 实验准备及实验方法 | 第44页 |
4.2.1 实验准备 | 第44页 |
4.2.2 实验方法 | 第44页 |
4.3 结果与讨论 | 第44-55页 |
4.3.1 电流密度分布结果讨论 | 第44-49页 |
4.3.2 po5体系中阻抗结果分析 | 第49-55页 |
4.4 本章小结 | 第55-56页 |
第五章 破损涂层下阴极迁移的行为分析 | 第56-70页 |
5.1 前言 | 第56-57页 |
5.2 实验准备和实验方法 | 第57-60页 |
5.2.1 实验准备 | 第57-58页 |
5.2.2 实验方法 | 第58-60页 |
5.3 结果与讨论 | 第60-69页 |
5.3.1 A组实验结果与讨论 | 第60-65页 |
5.3.2 B组实验结果与讨论 | 第65-69页 |
5.4 本章小结 | 第69-70页 |
第六章 结论 | 第70-72页 |
6.1 主要结论 | 第70-71页 |
6.2 对本论文后期工作的展望 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
个人简历 | 第79页 |
发表的学术论文 | 第79页 |