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阵列电极方法研究破损涂层阴极剥离行为

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 前言第11-23页
    1.1 金属腐蚀的现状第11-12页
    1.2 有机涂层防护机理第12-14页
    1.3 有机涂层的阴极剥离第14-16页
        1.3.1 有机涂层的阴极剥离第14页
        1.3.2 有机涂层阴极剥离的机理第14-15页
        1.3.3 阴极剥离在涂层失效中的作用第15页
        1.3.4 影响有机涂层阴极剥离的因素第15-16页
    1.4 破损涂层下的阴极迁移第16-18页
    1.5 研究破损涂层下阴极迁移的手段第18-21页
        1.5.1 电化学阻抗谱(EIS)技术第18-19页
        1.5.2 扫描Kelvin探针(SKP)技术第19-20页
        1.5.3 局部电化学阻抗谱(LEIS)技术第20页
        1.5.4 阵列电极(WBE)技术第20-21页
    1.6 课题的研究意义和研究内容第21-23页
        1.6.1 研究意义第21-22页
        1.6.2 研究内容第22-23页
第二章 实验材料与装置第23-29页
    2.1 试样制备第23页
    2.2 涂层制备第23页
    2.3 化学试剂第23-24页
    2.4 实验装置和测试仪器第24-29页
        2.4.1 实验装置与涂层破损方式第24-27页
        2.4.2 测试仪器与方法第27-29页
第三章 联合WBE和EIS技术建立涂层下阴极迁移过程评价方法第29-43页
    3.1 前言第29-32页
    3.2 实验方法第32页
    3.3 结果与讨论第32-41页
        3.3.1 电位分布与阻抗分布的相关性第32-33页
        3.3.2 电流分布与阻抗分布的相关性第33-34页
        3.3.3 四组体系浸泡实验过程中电流密度分布图和阻抗分布图的对比分析第34-41页
    3.4 本章小结第41-43页
第四章 不同破损面积下电极的腐蚀过程和涂层的失效特征第43-56页
    4.1 前言第43-44页
    4.2 实验准备及实验方法第44页
        4.2.1 实验准备第44页
        4.2.2 实验方法第44页
    4.3 结果与讨论第44-55页
        4.3.1 电流密度分布结果讨论第44-49页
        4.3.2 po5体系中阻抗结果分析第49-55页
    4.4 本章小结第55-56页
第五章 破损涂层下阴极迁移的行为分析第56-70页
    5.1 前言第56-57页
    5.2 实验准备和实验方法第57-60页
        5.2.1 实验准备第57-58页
        5.2.2 实验方法第58-60页
    5.3 结果与讨论第60-69页
        5.3.1 A组实验结果与讨论第60-65页
        5.3.2 B组实验结果与讨论第65-69页
    5.4 本章小结第69-70页
第六章 结论第70-72页
    6.1 主要结论第70-71页
    6.2 对本论文后期工作的展望第71-72页
参考文献第72-78页
致谢第78-79页
个人简历第79页
发表的学术论文第79页

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