| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-31页 |
| 1.1 前言 | 第10-12页 |
| 1.2 二氧化钛的晶体结构及基本性质 | 第12-14页 |
| 1.2.1 二氧化钛的晶体结构 | 第12-13页 |
| 1.2.2 TiO_2的物理化学性质 | 第13-14页 |
| 1.3 纳米二氧化钛的光催化原理 | 第14-17页 |
| 1.4 二氧化钛半导体光催化技术的发展 | 第17-19页 |
| 1.5 TiO_2的制备 | 第19-26页 |
| 1.5.1 TiO_2粉体的制备 | 第19-22页 |
| 1.5.2 TiO_2纳米薄膜的制备 | 第22-25页 |
| 1.5.3 TiO_2纳米管的制备 | 第25-26页 |
| 1.6 目前二氧化钛光催化剂的研究方向 | 第26-27页 |
| 1.7 二氧化钛半导体光催化剂的应用 | 第27-29页 |
| 1.7.1 废水处理 | 第27页 |
| 1.7.2 N_2和CO_2的光催化还原 | 第27-28页 |
| 1.7.3 空气净化 | 第28-29页 |
| 1.7.4 抗菌 | 第29页 |
| 1.7.5 光诱导超亲水性,自清洁 | 第29页 |
| 1.8 研究内容及意义 | 第29-31页 |
| 第二章 实验方法 | 第31-36页 |
| 2.1 试验基本过程 | 第31-32页 |
| 2.2 主要原料及试剂 | 第32-33页 |
| 2.3 主要仪器及设备 | 第33页 |
| 2.4 测试方法 | 第33-36页 |
| 2.4.1 X射线衍射法(XRD) | 第33-34页 |
| 2.4.2 扫描电镜微观形貌测试 | 第34页 |
| 2.4.3 循环伏安测试 | 第34-35页 |
| 2.4.4 交流阻抗测试 | 第35-36页 |
| 第三章 溶胶-凝胶法制备的TiO_2薄膜的表征及性能研究 | 第36-47页 |
| 3.1 前言 | 第36页 |
| 3.2 TiO_2溶胶的实验原理及制备工艺 | 第36-38页 |
| 3.2.1 实验原理 | 第36-37页 |
| 3.2.2 二氧化钛溶胶制备工艺 | 第37-38页 |
| 3.3 二氧化钛纳米薄膜的制备 | 第38页 |
| 3.4 TiO_2薄膜的表征及性能测试 | 第38-40页 |
| 3.4.1 物相分析 | 第38-39页 |
| 3.4.2 二氧化钛薄膜光催化性能的测试 | 第39-40页 |
| 3.5 不同提拉次数对膜厚的影响 | 第40-41页 |
| 3.5.1 膜厚的测定 | 第41页 |
| 3.6 不同基体上制备的TiO_2薄膜对光催化性能的影响 | 第41-43页 |
| 3.7 不同退火温度对TiO_2薄膜性能的影响 | 第43-46页 |
| 3.8 在钛基体上制备的TiO_2薄膜的重复利用性能 | 第46页 |
| 3.9 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 阳极氧化法制备的TiO_2阵列薄膜的表征及性能研究 | 第47-58页 |
| 4.1 前言 | 第47页 |
| 4.2 阳极氧化法制备TiO_2阵列薄膜的工艺流程 | 第47-48页 |
| 4.2.1 基体的预处理 | 第47页 |
| 4.2.2 阳极氧化 | 第47-48页 |
| 4.3 TiO_2薄膜的表征及性能测试 | 第48页 |
| 4.3.1 物相分析 | 第48页 |
| 4.3.2 电化学性能测试 | 第48页 |
| 4.3.3 光电催化降解MB反应 | 第48页 |
| 4.4 TiO_2纳米管SEM图 | 第48-50页 |
| 4.5 TiO_2纳米管光电流 | 第50-53页 |
| 4.6 不同电解液下制备的TiO_2纳米管对MB降解速率的影响 | 第53-54页 |
| 4.7 NH_4F-H_2O-乙二醇溶液中制备的TiO_2纳米管阵列薄膜的交流阻抗曲线 | 第54-56页 |
| 4.8 TiO_2纳米管阵列薄膜的重复使用性能 | 第56-57页 |
| 4.9 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 总结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 攻读学位期间已发表的学术论文 | 第67页 |
